[发明专利]包含均化剂的金属电镀用组合物

权利要求书

1.一种包含金属离子源和至少一种可通过如下步骤获得的均化剂：使至少一种通式N(R¹-OH)₃(Ia)的三链烷醇胺和/或至少一种通式R²-N(R¹-OH)₂(Ib)的二链烷醇胺缩合得到聚链烷醇胺(II)，

其中

-基团R¹各自独立地选自具有2-6个碳原子的二价线性或支化的脂族烃基，和

-基团R²各自选自氢和具有1-30个碳原子的线性或支化的脂族、脂环族和芳族烃基，

或可通过所述聚链烷醇胺(II)的烷氧基化、取代或烷氧基化和取代两者而获得的衍生物的组合物。

2.根据权利要求1的组合物，其中所述金属离子包括铜离子。

3.根据权利要求1或2的组合物，其中所述均化剂为可通过将所得聚链烷醇胺(II)用C₂-C₁₂氧化烯、氧化苯乙烯、缩水甘油或缩水甘油醚烷氧基化而获得的烷氧基化聚链烷醇胺。

4.根据权利要求3的组合物，其中所述氧化烯选自氧化乙烯、氧化丙烯、氧化丁烯或其组合。

5.根据权利要求3或4的组合物，其中烷氧基化度为0.1-200，尤其是0.5-20。

6.根据上述权利要求中任一项的组合物，其中取代为季铵化、质子化、烷基化、硫酸化、磷酸化或其组合。

7.根据上述权利要求中任一项的组合物，其中添加剂可通过选自式(Ia)和(Ib)的N-羟烷基胺的化合物与包含两个羟基或两个氨基或一个羟基和一个氨基的至少一种化合物(Ic)共缩合而获得。

8.根据权利要求7的组合物，其中至少一种化合物(Ic)以基于用于缩合的全部组分量为不大于50重量％的量存在。

9.根据上述权利要求中任一项的组合物，其中聚氧化烯具有嵌段、无规或梯度结构或其组合。

10.根据上述权利要求中任一项的组合物，其中至少一种三链烷醇胺(Ia)选自三乙醇胺、三异丙醇胺和三丁-2-醇胺。

11.根据上述权利要求中任一项的组合物，其进一步包含促进剂。

12.根据上述权利要求中任一项的组合物，其进一步包含抑制剂。

13.聚链烷醇胺或可通过其烷氧基化、取代或烷氧基化和取代两者而获得的衍生物在电镀浴中在沉积含金属层中的用途，其中聚链烷醇胺可通过如下步骤获得：

使至少一种通式N(R¹-OH)₃(Ia)的三链烷醇胺和/或至少一种通式R²-N(R¹-OH)₂(Ib)的二链烷醇胺缩合得到聚链烷醇胺(II)，

其中

-基团R¹各自独立地选自具有2-6个碳原子的二价线性或支化的脂族烃基，和

-基团R²各自选自氢和具有1-30个碳原子的线性或支化的脂族、脂环族和芳族烃基。

14.一种通过以下步骤在基材上沉积金属层的方法：

a)使包含根据权利要求1-12中任一项的组合物的金属电镀浴与基材接触，和

b)以足以在基材上沉积金属层的时间向基材施加电流密度。

15.根据权利要求14的方法，其中基材包含微米或亚微米级尺寸化特征并且进行沉积以填充所述微米或亚微米级尺寸化特征。

16.根据权利要求15的方法，其中微米级或亚微米级尺寸化特征具有1-1000nm的尺寸和/或4或更大的长宽比。