[发明专利]树脂组合物、包含藤壶防污剂的防污涂料及其制备工艺无效

专利信息
申请号: 200980151342.0 申请日: 2009-12-02
公开(公告)号: CN102257077A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: A·D·布罗伊克;M·沃斯 申请(专利权)人: PPG有限责任公司
主分类号: C09D5/16 分类号: C09D5/16;C08F8/42;C08F230/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 王健
地址: 荷兰厄*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 树脂 组合 包含 防污 涂料 及其 制备 工艺
【权利要求书】:

1.防污涂料,包含树脂组合物、溶剂和藤壶防污剂,所述树脂组合物包含在其侧链中或在其末端处具有至少一个由式(I)表示的基团的聚合物:

其中Z表示

其中R2和R3独立地选自烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基或烷芳基,所述基团任选地被一个或多个独立地选自烷基、烷氧基、烷芳基、芳烷氧基、烷芳氧基、芳基、芳氧基、卤素、氨基或氨基烷基的取代基取代;

和其中A:表示伯至叔胺或者含氮杂环化合物,它在任一种情况下通过N-B键与硼配位;

任选地,所述溶剂不含正丁醇,其特征在于,所述藤壶防污剂选自至少一种干扰藤壶、特别是金星藤壶中的神经信号的化合物。

2.防污涂料,包含:

(a)树脂组合物,所述树脂组合物包含在其侧链中或在其末端处具有至少一个由式(I)表示的基团的聚合物:

其中Z表示

其中R2和R3独立地选自烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基或烯基,所述基团任选地被一个或多个独立地选自烷基、烷氧基、芳烷基、烷芳基、芳烷氧基、烷芳氧基、芳基、芳氧基、卤素、氨基或氨基烷基的取代基取代;

和其中A:表示伯至叔胺减者含氮杂环化合物,它在任一种情况下通过N-B键与硼配位;

任选地,所述树脂组合物包含溶剂并且不含正丁醇;

其特征在于,所述涂料包含藤壶防污剂,所述藤壶防污剂选自至少一种干扰藤壶、特别是金星藤壶中的神经信号的化合物。

3.防污涂料,包含:

(a)树脂组合物,所述树脂组合物包含在其侧链中或在其末端处具有至少一个由式(I)表示的基团的聚合物:

其中Z表示

其中R2和R3独立地选自烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基或烷芳基,所述基团任选地被一个或多个独立地选自烷基、烷氧基、芳烷基、烷芳基、芳烷氧基、烷芳氧基、芳基、芳氧基、卤素、氨基或氨基烷基的取代基取代;

和其中A:表示伯至叔胺或者含氮杂环化合物,它在任一种情况下通过N-B键与硼配位;

所述组合物包含稳定剂来稳定式I的上述基团;

其特征在于所述涂料包含藤壶防污剂,所述藤壶防污剂任选也可以是所述稳定剂并且选自至少一种干扰藤壶、特别是金星藤壶中的神经信号的化合物。

4.权利要求3的防污涂料,其中所述稳定剂是胺或者含氮杂环化合物。

5.权利要求4的防污涂料,其中所述稳定剂是具有取代的或未取代的氮原子的非络合的杂环化合物或者所述稳定剂是具有一个或多个如本文定义的烷基、环烷基、烯基、炔基、芳烷基、烷芳基、芳基或其组合的任何伯、仲或叔胺,所述基团可以是未取代的或者被烷氧基、卤素、羟基、-COOH、-COO烷基或另外的氨基取代的。

6.权利要求4或5的防污涂料,其中所述稳定剂在所述组合物中的添加量占全部树脂组合物的1-50%wt/wt。

7.具有含硼聚合物和藤壶防污剂的防污涂料的制备方法,包括使在其侧链中或在其末端处具有至少一个式-Z(OH)n的酸基的聚合物与由下式(II)表示的氮原子配位的硼化合物反应的步骤,其中n=1或2以及Z如上文权利要求1的定义:

其中R1、R2和R3可以相同或不同并且独立地选自烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基或烷芳基,所述基团任选地被一个或多个独立地选自烷基或芳基、烷氧基、芳烷基、烷芳基、芳烷氧基、烷芳氧基、芳基、芳氧基、卤素、氨基或氨基烷基的取代基取代;和A表示伯至叔胺或者含氮杂环化合物,它在任一种情况下通过N-B键与硼配位;

其中所述聚合物的反应在不存在正丁醇的情况下进行;以及

向所述含硼聚合物中添加至少一种藤壶防污剂,其选自至少一种干扰藤壶、特别是金星藤壶中的神经信号的化合物。

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