[发明专利]合成吲哚并咔唑化合物的聚合物缀合物

权利要求书

1.制备式(I)吲哚并咔唑化合物的聚合物缀合物的方法

其中

R¹和R²是相同或不同的残基并且各自独立选自：

(a)氢，卤素，取代的或未取代的低级烷基，取代的或未取代的低级烯基，取代的或未取代的低级炔基，羟基，低级烷氧基，羧基，低级烷氧基羰基，酰基，硝基，氨基甲酰基，低级烷基氨基羰基，-NR⁵R⁶，其中R⁵和R⁶各自独立选自氢，取代的或未取代的低级烷基，取代的或未取代的低级烯基，取代的或未取代的低级炔基，取代的或未取代的芳基，取代的或未取代的杂芳基，取代的或未取代的芳烷基，取代的或未取代的低级烷基氨基羰基，取代的或未取代的低级芳基氨基羰基，烷氧羰基，氨基甲酰基，酰基或者R⁵和R⁶与氮原子相组合以形成杂环基团，

(b)-CO(CH₂)_jR⁴，其中j是1至6，而R⁴选自

(i)氢，卤素，-N₃，

(ii)-NR⁵R⁶，其中R⁵和R⁶如前文所定义，

(iii)-SR⁷，其中R⁷选自氢，取代的或未取代的低级烷基，取代的或未取代的低级烯基，取代的或未取代的低级炔基，取代的或未取代的芳基，取代的或未取代的杂芳基，取代的或未取代的芳烷基，-(CH₂)_aCO₂R¹⁰(其中a是1或2，而其中R¹⁰选自氢和取代的或未取代的低级烷基)和-(CH₂)_aCO₂NR⁵R⁶，

(iv)-OR⁸，-OCOR⁸，其中R8选自氢，取代的或未取代的低级烷基，取代的或未取代的低级烯基，取代的或未取代的低级炔基，取代的或未取代的芳基，取代的或未取代的杂芳基

(c)-CH(OH)(CH₂)_jR⁴，其中j和R⁴如前文所定义；

(d)-(CH₂)_dCHR¹¹CO₂R¹²或-(CH₂)_dCHR¹¹CONR⁵R⁶，其中d是0至5，R¹¹是氢，-CONR⁵R⁶，或-CO₂R¹³，其中R¹³是氢或取代的或未取代的低级烷基，而R¹²是氢或取代的或未取代的低级烷基；

(e)-(CH₂)_kR¹⁴，其中k是2至6而R¹⁴是卤素，取代的或未取代的芳基，取代的或未取代的杂芳基，-COOR¹⁵，-OR¹⁵，(其中R¹⁵是氢，取代的或未取代的低级烷基，取代的或未取代的低级烯基，取代的或未取代的低级炔基，取代的或未取代的芳基，取代的或未取代的杂芳基或酰基)，-SR⁷(其中R⁷如前文所定义)，-CONR⁵R⁶，-NR⁵R⁶(其中R⁵和R⁶如前文所定义)或-N₃；

(f)-CH＝CH(CH₂)_mR¹⁶，其中m是0至4，而R¹⁶是氢，取代的或未取代的低级烷基，取代的或未取代的低级烯基，取代的或未取代的低级炔基，取代的或未取代的芳基，取代的或未取代的杂芳基，-COOR¹⁵，-OR¹⁵(其中R¹⁵如前文所定义)，-CONR⁵R⁶或-NR⁵R⁶(其中R⁵和R⁶如前文所定义)；

(g)-CH＝C(CO₂R¹²)₂，其中R¹²如前文所定义；

(h)-C≡C(CH₂)_nR¹⁶，其中n是0至4而R¹⁶如前文所定义；

(i)-CH₂OR²²，其中R²²是三-低级烷基甲硅烷基，其中所述三个低级烷基是相同或不同的或者其中R²²具有与R⁸相同的含义；

(j)-CH(SR²³)₂和-CH₂-SR⁷，其中R²³是低级烷基，低级烯基或低级炔基而其中R⁷如前文所定义；并且

R₃是氢，卤素，酰基，氨基甲酰基，取代的或未取代的低级烷基，取代的或未取代的烯基，取代的或未取代的低级炔基或氨基；并且

W¹和W²独立地是氢，羟基或者W¹和W²一起代表氧；

而其中X是聚合物部分，

其中所述方法包括将通式(II)的ω-1H-咪唑-甲酰胺聚合物化合物

其中X如上文所定义，与通式(III)的吲哚并咔唑化合物反应

其中R₁，R₂，R₃，W₁和W₂如上文所定义并且其任选受保护基团保护而其中Y代表离去基团，并且其中所述方法还任选包括脱保护基团R₁，R₂，R₃，W₁和W₂以获得式(I)化合物。