[发明专利]电容式触摸面板

说明书

技术领域

本发明涉及用于制造电容式触摸面板的方法，尤其涉及一种与在双层投射式电容式触摸面板的两个导电层上刻绘电极有关的方法。

背景技术

电容式触摸面板技术被广泛使用，例如用于移动电话、卫星导航系统、PDA屏幕和手持游戏控制台中。

一种特定形式的电容式触摸面板被称为投射式电容触控技术或“PCT(projective capacitive touch technology)”。在PCT设备中，感应电极的XY阵列在透明导电材料层中形成。使用时，在用户手指和感应电极的投射电容之间形成电容。进行触摸后，其被精确的测量并且转换为由底层电子设备执行的命令，用于适当的软件应用。PCT屏的优点是对于手指和光笔的准确响应。

一种特定形式的PCT技术具有两层分离的透明导电材料，并且检测在电极阵列层的交点处的电极之间的互电容的变化。

透明导电材料层中的每一个都被分割成为在第一方向上电连接但在第二方向上电隔离的多个离散的电极单元。在两层上所刻绘的图案可以是相同的也可以是不同的。

通常地，在使用PCT技术的电容式触摸面板中，在透明衬底的相对表面的每一个上沉积透明导电材料层。使用两个独立的激光器在所述透明导电材料层的每一个上刻绘电极图案。可替换地，所述衬底可以被翻转并且所述设备进行再校准以进行对第二层的刻绘工艺。当要求所述两个表面上的电极图案相同时，可以在双层间聚焦单激光器，并且选择其参数以提供同时对双层中每一个的刻绘而不损伤透明衬底。可以理解，该单激光器工艺不能用于在所述双层上提供不同的图案。

发明内容

本发明的目标是提供一种新型以及高效的工艺，该工艺用于在PCT触摸面板的两个导电层上刻绘不同的电极图案，而不需要第二个激光器。

根据本发明，提供一种用于激光刻绘沉积在透明衬底相对表面上的两层透明导电层的方法，包括：

1.通过一个或多个透镜，将激光束指向在所述两层中第一层的暴露表面上的或与该暴露表面紧密相邻的第一焦点；

2.在与所述激光束的轴垂直的平面中的两个轴向上，启动所述激光束与衬底之间的相对运动，从而在所述两层中第一层上刻绘电极图案；

3.重新定位所述一个或多个透镜，并且将所述激光束聚焦到在所述两层中第二层的暴露表面上的或与该暴露表面紧密相邻的第二焦点；

4.在与所述激光束的轴垂直的平面中的两个轴向上，启动所述激光束与衬底之间的相对运动，从而在所述两层中第二层上刻绘电极图案。

在一个简单的实施例中，步骤3包括：沿着在所述激光束出射的点和所述衬底之间的激光束的轴设置单个透镜，该单个透镜沿所述激光束的轴移动，从而调整所述焦点的位置。在一个较复杂的实施例中，对齐两个或多个透镜并代替所述单个透镜，步骤3包括：调整两个或多个透镜的间距。

在一个可替换的实施例中，可以定位一个或多个透镜以在所述激光束出射之前阻断该激光束，并且重新定位所述一个或多个透镜以改变所述光束的发散度，从而相对于所述衬底改变出射光束的焦点。

可以理解，预先选择光束直径、光束功率、脉冲能量以及透镜焦距的组合，以确保实现所述焦点位于期望的位置范围内。发明人发现，用于执行上述方法的装置的实际实施例可以通过使用在1到100ns范围的激光脉冲长度和激光波长为250-360纳米紫外线(UV)或1040至1075纳米红外线(IR)来实现。在532纳米附近的可见光范围内工作的激光也被证明是可行的。另外，脉冲长度在亚纳秒(ps)范围的脉冲激光也适合这种方法，但是，一般认为所述脉冲长度不应该过短，因为如果过短，当所述光束处理第二侧面时将在衬底中产生过高强度，可能损坏衬底。

已经显示能够实现满意工作的操作条件的具体例子如下：钠钙玻璃，其厚度为0.55毫米，在其相对两侧沉积ITO，其表面电阻率100欧姆每平方；激光束，其重复率为100kHz，功率为0.5W，波长为1064nm，直径为12mm，其通过具有100毫米焦距的透镜聚焦到直径12微米的焦斑，并且以400mm/秒的光束速度在所述衬底表面移动。在这种情况下，事实表明，光束可以聚焦到所述玻璃衬底的上表面并且干净地移除该表面上的ITO层而不损害所述衬底以及在该衬底下侧的ITO层，然后，重新聚焦该光束到下表面并且干净地移除该表面上的ITO层而不损害所述衬底以及该衬底上侧的ITO层。

所述步骤2和4中的电极图案可以相同也可以不同。