[发明专利]磁共振成像装置无效
申请号: | 201010004843.0 | 申请日: | 2010-01-05 |
公开(公告)号: | CN101843484A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 岩馆雄治;神田健一 | 申请(专利权)人: | GE医疗系统环球技术有限公司 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 严志军;刘华联 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 磁共振 成像 装置 | ||
1.一种磁共振成像装置(1),包括:
扫描执行单元(2),所述扫描执行单元(2)执行常规扫描,在所述常规扫描中执行用于在导航区域(NA)中产生磁共振信号的导航程序和用于在对象的成像区域(IA)中产生磁共振信号的成像程序,所述导航区域(NA)包含随着对象的生物运动而移动的关注区(403)和将所述关注区(403)夹在中间的高信号物质(402)和低信号物质(401);和
信号处理单元(3),所述信号处理单元(3)基于在所述常规扫描中由导航程序产生的磁共振信号来检测所述关注区(403)的位置,并基于所述检测的位置和所述成像程序所产生的磁共振信号而产生图像,
所述磁共振成像装置(1)还包括RF线圈(24),所述RF线圈(24)包括多个线圈元件(241-248),
其中,所述扫描执行单元(2)在执行所述常规扫描之前执行预扫描,在所述预扫描中执行导航程序,
其中,所述信号处理单元(3)包括:
线圈元件选择单元(321),所述线圈元件选择单元(321)相对于在所述预扫描中由导航程序产生的并在各个线圈元件(241-248)上所接收的磁共振信号而产生强度分布,所述强度分布指示了在所述导航区域(NA)中从靠近所述高信号物质(402)的一端至靠近所述低信号物质(401)的另一端的预定方向上的位置与磁共振信号强度之间的关系,确定在所产生的强度分布中在所述预定方向上与所述高信号物质(402)相对应的分布线的梯度极性,并选择线圈元件,所述线圈元件接收梯度极性被确定为面向上的强度分布中在最大信号强度方面最高的强度分布的磁共振信号,并且
其中,基于在所述常规扫描中由导航程序所产生并在所选的线圈元件上接收到的磁共振信号来检测所述关注区(403)的位置。
2.根据权利要求1所述的磁共振成像装置(1),其特征在于,
所述线圈元件选择单元(321)基于通过在所述预定方向上将强度分布划分成多个范围而获得的第一范围内的信号强度的代表值与第二范围内的信号强度的代表值之间的大小关系来确定梯度极性。
3.根据权利要求1所述的磁共振成像装置(1),其特征在于,
所述线圈元件选择单元(321)基于所产生的强度分布中的至少一个来检测所述关注区(403)的位置,并且基于在强度分布中开始于一端且在所述预定方向上延伸到距离所述一端预定距离的位置的范围内的信号强度的代表值和开始于所述检测的位置并在与所述预定方向相反的方向上延伸到预定距离的位置的范围内的信号强度的代表值之间的大小关系来确定梯度极性。
4.根据权利要求2所述的磁共振成像装置(1),其特征在于,
所述信号强度的代表值是目标范围内的中心位置的信号强度。
5.根据权利要求2所述的磁共振成像装置(1),其特征在于,
所述信号强度的代表值是目标范围内的各个位置上的信号强度的总和或平均值。
6.根据权利要求1所述的磁共振成像装置(1),其特征在于,
所述线圈元件选择单元(321)选择第一线圈元件和第二线圈元件,所述第一线圈元件接收梯度极性被确定为面向上的强度分布中的最大信号强度方面最高的强度分布的磁共振信号,所述第二线圈元件接收梯度极性被确定为面向下的强度分布中的最大信号强度方面最高的强度分布的磁共振信号,且
其中,所述信号处理单元(3)基于由所述导航程序产生并在所述第一和第二线圈元件上接收的磁共振信号来检测所述预定的位置。
7.根据权利要求6所述的磁共振成像装置(1),其特征在于,
相对于通过将所述第一线圈元件上所接收的磁共振信号和所述第二线圈元件上所接收的磁共振信号合成而获得的信号,所述信号处理单元(3)产生指示在所述导航区域(NA)中的位置与所述合成信号的强度之间的关系的强度分布,并且基于所述强度分布来检测所述关注区(403)的位置。
8.根据权利要求7所述的磁共振成像装置(1),其特征在于,
所述合成信号是所述第一线圈元件上所接收的磁共振信号的平方和所述第二线圈元件上所接收的磁共振信号的平方之和的平方根。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于GE医疗系统环球技术有限公司,未经GE医疗系统环球技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010004843.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:射频识别系统映射建模仿真方法
- 下一篇:硅酮泡沫及其生产方法