[发明专利]用冷冻研磨纳米粒状颗粒涂覆的方法无效
申请号: | 201010005271.8 | 申请日: | 2010-01-08 |
公开(公告)号: | CN101851721A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | E·卡拉;K·阿南德;P·R·苏布拉马尼安;S·K·森迪;R·奥鲁甘地 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | C22C30/00 | 分类号: | C22C30/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 林毅斌;林森 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 冷冻 研磨 纳米 粒状 颗粒 方法 | ||
1.一种用冷冻研磨纳米粒状颗粒涂覆基材的方法,所述方法包括:
形成包含镍、钴、铬、钨和钼的面心立方γ基质;
向γ基质加入分散强化物质,以形成第一混合物;
冷冻研磨第一混合物,以形成第二混合物,第二混合物具有纳米粒状结构;并且
将第二混合物冷喷到基材上以形成涂层,涂层具有纳米粒状结构。
2.权利要求1的方法,其中形成γ基质进一步包括加入铝和钛的至少一种。
3.权利要求1的方法,其中加入分散强化物质包括将氧化铝、氧化钇、氧化锆、氧化铪、碳化钨和碳化铬的至少一种加入到γ基质。
4.权利要求1的方法,所述方法进一步包括将碳加入到第一混合物。
5.权利要求1的方法,所述方法进一步包括从基材除去涂层,所述涂层形成物体的最终形状。
6.一种用于涡轮机的产品,所述产品通过包括以下步骤的方法制备:
形成包含镍、钴、铬、钨和钼的面心立方γ基质;
向γ基质加入分散强化物质,以形成第一混合物;
冷冻研磨第一混合物,以形成第二混合物,第二混合物具有纳米粒状结构;并且
将第二混合物冷喷到基材上以形成涂层,涂层具有纳米粒状结构。
7.权利要求6的方法制备的产品,其中加入分散强化物质包括将γ基质热处理形成γ′沉淀,以形成第一混合物。
8.权利要求6的方法制备的产品,其中冷冻研磨第一混合物包括在包含液化惰性气体的冷冻研磨介质化学物质中冷冻研磨第一混合物。
9.权利要求6的方法制备的产品,其中形成γ基质包括混合约30-50%镍、约10-30%钴、约4-10%钼、约4-10%钨和约10-30%铬。
10.权利要求6的方法制备的产品,其中形成γ基质进一步包括约0-6%铼、约0-6%铌、约0-6%钽、约0-5%铝和约0-5%钛的至少一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气公司,未经通用电气公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010005271.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。