[发明专利]天然气转化为液体烃的连续方法

权利要求书

1.包括以下步骤的方法：

提供卤素料流；

提供第一烷烃料流；

将至少一部分卤素料流与至少一部分第一烷烃料流进行反应来形成卤化料流，其中卤化料流包括烷基单卤化物、烷基多卤化物和卤化氢；

提供第二烷烃料流；和

将至少一部分第二烷烃料流与至少一部分烷基多卤化物进行反应来生成至少一些额外的烷基单卤化物。

2.权利要求1的方法，进一步包括：

将至少一些烷基单卤化物和至少一些额外的烷基单卤化物与催化剂接触来形成包括高碳烃和卤化氢的产物料流。

3.权利要求2的方法，进一步包括：

将卤化氢与产物料流分离；和

将卤化氢与氧源进行反应来再生卤素料流。

4.权利要求1的方法，其中至少一部分卤素料流与至少一部分第一烷烃料流的反应是在反应容器第一区中进行的，而至少一部分第二烷烃料流与至少一部分烷基多卤化物的反应是在反应容器第二区进行的。

5.权利要求4的方法，其中反应容器第一区是反应容器第二区的上游。

6.权利要求1的方法，其中至少一部分卤素料流与至少一部分第一烷烃料流的反应是在卤化催化剂存在下进行的。

7.权利要求6的方法，其中卤化催化剂包括至少一种选自沸石、无定形铝硅酸盐、酸性氧化锆、钨酸盐、固体磷酸、金属氧化物、混合金属氧化物、金属卤化物和混合金属卤化物的催化剂。

8.权利要求3的方法，其中至少一部分卤素料流与至少一部分第一烷烃料流的反应是在多个反应器中进行的，其中多个反应器的至少一个是全时操作的。

9.权利要求8的方法，其中所述多个反应器之一通过引入氧源进行除焦来生成除焦产物，其中在卤化氢与氧源反应之前将所述除焦产物与卤化氢合并。

10.权利要求2的方法，进一步包括：

将至少一些烷基单卤化物和至少一些额外的烷基单卤化物与异构化催化剂接触来生成异构化料流，然后再将异构化料流与所述催化剂接触来形成产物料流。

11.权利要求2的方法，进一步包括：

将产物料流与加氢脱卤催化剂接触来生成脱卤产物料流和卤化氢。

12.权利要求11的方法，其中加氢脱卤催化剂包括至少一种选自铜、氧化铜、钯和铂的活性组分，且负载于至少一种选自活性炭、氧化铝、氧化硅和沸石的材料上。

13.权利要求2的方法，其中所述催化剂包括离子交换的沸石，所述离子包括至少一种选自如下的离子：Ag离子、Ba离子、Bi离子、Ca离子、Fe离子、Li离子、Mg离子、Sr离子、K离子、Na离子、Rb离子、Mn离子、Co离子、Ni离子、Cu离子、Ru离子、Pb离子、Pd离子、Pt离子和Ce离子。

14.形成烃的系统，包括：

卤化反应器，其中所述卤化反应器接收一定量卤化物和第一量烷烃并产出卤化产物；

再均衡反应器，其中所述再均衡反应器接收卤化产物和第二量烷烃并产出至少一些烷基单卤化物和一定量卤化氢；和

包括催化剂的低聚反应器，其中所述低聚反应器接收烷基单卤化物并产出一定量烃产物和第二量卤化氢。

15.权利要求14的系统，进一步包括：

分离器，其中所述分离器接收所述一定量烃产物、所述一定量卤化氢和所述第二量卤化氢并产出包括基本全部卤化氢的酸料流和含基本全部烃产物的气体料流；和

氧化反应器，其中所述氧化反应器接收所述酸料流和一定量氧源物并产出至少一定量卤素。

16.权利要求14的系统，其中所述卤化反应器位于反应容器的第一区中且所述再均衡反应器位于反应容器第二区中。

17.权利要求16的系统，其中所述第一区位于第二区的上游。

18.权利要求15的系统，进一步包括：

包括脱卤化氢催化剂的脱卤化氢反应器，其中所述脱卤化氢反应器接收含基本全部烃产物的气体料流并产出脱卤化氢的气体料流和第三量卤化氢。