[发明专利]一种横向功率器件版图结构无效

专利信息
申请号: 201010028145.4 申请日: 2010-01-20
公开(公告)号: CN101771084A 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 乔明;胡曦;罗波;叶俊;蒋苓利;傅达平;段双亮;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/739
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 横向 功率 器件 版图 结构
【说明书】:

技术领域

发明属于半导体功率器件技术领域,涉及横向高压功率半导体器件的版图结构。

背景技术

在集成电路设计中,器件的版图结构时常成为决定集成电路性能好坏的关键。布局紧凑、 合理的版图能够增加集成电路的稳定性,防止芯片失效。而差的版图结构不仅会引起芯片面 积的巨大浪费,而且将使集成电路发生闩锁效应,器件产生局部热点等,致使芯片寿命短, 成品率低。

横向功率器件以其宽电压应用范围,便于集成的优势广泛用于功率集成电路(Power IC, PIC)中,对于横向功率器件的版图常采用叉指结构。图1给出了传统横向功率器件版图结 构示意图,其中1为源电极,2为栅电极,3为轻掺杂漂移区,4为漏电极。从图上可以看出, 其由一系列相互交叉的源电极和漏电极叉指条构成,目前,叉指型版图结构是用于横向功率 器件的常用版图结构。图2给出了叉指型版图的一种具体连接,其中1为源电极,3为轻掺 杂漂移区,4为漏电极,栅电极在图中并未标出。

叉指型式的版图结构虽然具有广泛的应用,但还是有些不足。首先,叉指型版图的多晶 硅栅电极较长,器件在导通和关断时会出现不同区域导通和关断不均匀的现象,导致器件开 启和关断的局部不统一,为器件工作的稳定性带来了隐患。其次,这种版图形式单一,硅片 面积使用率上有着一定的不足。最后,漏电极4一般所加电压较高,会在器件边缘终端处引 起曲率效应,电场聚集,器件易于击穿,对于曲率部分的考虑引起器件设计复杂度增加,芯 片成本增加。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于,针对现有叉指型版图结构的开启和关断的局部不统一、 面积使用率不足,曲率终端部分设计复杂等问题,提供一种横向功率器件版图结构,具有布 局紧凑,无需额外的曲率终端设计,比导通电阻低、寄生电容小、开关速度快和电流能力强 等优点,可应用于LDMOS、LIGBT等横向功率器件版图结构中。

本发明技术方案是:

一种横向功率器件版图结构,如图3~11所示,包括源电极1、栅电极2、轻掺杂漂移区 3和漏电极4;所述横向功率器件在横向截面上形成元胞化排列结构。每个元胞具有相同的结 构,由内向外依次是漏电极4、轻掺杂漂移区3、栅电极2和源电极1,且漏电极4被轻掺杂 漂移区3所包围,轻掺杂漂移区3被栅电极2所包围,栅电极2被源电极1所包围。每个元 胞的源电极(1)、栅电极(2)、轻掺杂漂移区(3)和漏电极(4)以及整个元胞的横截面形 状相同,为圆形或正n边形,其中n≥3。

上述技术方案中,相邻两个元胞共用源电极,每个元胞拥有自己独立的栅电极、漂移区、 漏电极。

本发明提供的横向功率器件版图结构中,可在每个元胞的轻掺杂漂移区3与漏电极4之 间加入缓冲层5,如图5、图8、图11所示。

为了使本发明技术更加清楚明白,现在以正方形元胞排列对本发明进行详细阐述。

在所述正方形的横向功率器件元胞中,漏电极处于元胞中央,所述漏电极为正方形,其 完全被漂移区包围,所述漂移区位于栅电极与漏电极间,源电极包围栅电极。所述结构为封 闭正方形结构,从外到里依次为源电极、栅电极、漂移区、漏电极。其中漏电极在内,最外 层源电极包围了上述所有区域。

在所述正方形的横向功率器件版图结构中,其横向功率器件由多个正方形元胞排列而成, 相邻两个正方形元胞共用源电极,每个正方形元胞拥有自己独立的栅电极、漂移区、漏电极, 其与相邻四个正方形元胞共用源电极,其栅电极位于源电极旁,可给器件提供更大的宽长比, 器件导通时,增加电流密度,减小横向功率器件的比导通电阻。其漏电极位于最中央,被轻 掺杂漂移区包围。所述横向功率器件版图结构拥有小的栅漏寄生电容,所述电容为密勒电容, 因此本发明所提供的横向功率器件版图结构拥有小的密勒电容,使得器件频率特性更佳。除 此,本发明所提供的横向功率器件采用元胞排列以后,其版图与工艺上不需要考虑曲率终端 结构设计,使得器件版图结构设计简单。

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