[发明专利]彩色滤光片及其制造方法、液晶显示装置无效
| 申请号： | 201010034528.2 | 申请日： | 2010-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN102135678A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 樊浩原;朴进山;杨玉清 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 彩色 滤光 及其 制造 方法 液晶 显示装置 | ||
1.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，包括：
在基板上形成黑矩阵、像素树脂，以及位于所述黑矩阵和像素树脂上方的公共电极；
在所述公共电极上方涂覆光刻胶；
采用灰阶/半阶掩模板曝光工艺对所述光刻胶进行曝光和显影，同时形成柱状隔垫物与保护层。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，涂覆的所述光刻胶的厚度为1微米至5微米。
3.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述光刻胶的透过率大于30％。
4.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述保护层的厚度为1微米至3微米。
5.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述柱状隔垫物的厚度为2微米至5微米。
6.一种彩色滤光片，包括基板，形成在所述基板上的黑矩阵、像素树脂和公共电极，其特征在于，在所述公共电极的上方形成有保护层和柱状隔垫物。
7.根据权利要求6所述的彩色滤光片，其特征在于，所述保护层的透过率大于30％。
8.根据权利要求6所述的彩色滤光片，其特征在于，所述保护层的厚度为1微米至3微米。
9.根据权利要求6所述的彩色滤光片，其特征在于，所述柱状隔垫物的厚度为2微米至5微米。
10.一种包括权利要求6～9任一所述的彩色滤光片的液晶显示装置，其特征在于，还包括阵列基板，所述阵列基板和所述彩色滤光片对盒设置，其间填充有液晶。
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