[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其设置有根据处理条件对被处理体进 行等离子体处理的处理室，该等离子体处理装置的特征在于，具有：

存储有与所述处理条件不同的多个再处理条件的存储部；以及

具有监视所述等离子体处理中有无发生异常的监视功能、和判定 发生的异常的种类的判定功能的控制系统，其中

在所述存储部中预先存储有与所述被处理体或所述处理室内的温 度、等离子体的发光强度和维持产生等离子体的高频电力的反射波的 大小有关的规定值，

所述控制系统根据正常地结束了处理的被处理体的每个处理经过 时间的所述被处理体或所述处理室内的温度、所述高频电力的输出值、 所述等离子体的发光强度和所述反射波的大小，针对每个处理经过时 间，设定所述规定值，并存储在所述存储部中，

在等离子体处理中的所述被处理体的温度、所述等离子体的发光 强度和所述反射波的大小脱离所述规定值时，所述控制系统判断为发 生异常，

在判断所述等离子体处理中发生异常的情况下，所述控制系统根 据所判定的异常的种类，从所述多个再处理条件中选择一个再处理条 件，对所述被处理体进行再处理。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在所述等离子体处理中发生异常的情况下，所述控制系统判断是 否能够继续进行等离子体处理，在判断为能够继续进行处理时，选择 一个再处理条件，对所述被处理体实施再处理。

3.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述控制系统控制向所述处理室内供给处理气体的处理气体供给 系统、对所述处理室内进行排气的排气系统、和向所述处理室内供给 维持产生等离子体的高频电力的高频电源系统，

所述再处理条件与所述处理条件相比，所述处理气体的流量、所 述处理气体的种类、所述处理室内的排气量、所述高频电力的输出中 的至少任一个不同。

4.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述控制系统在判断为发生异常之后直到对所述被处理体实施再 处理的期间，使用于维持产生等离子体的高频电力为维持等离子体所 需要的最低限度的输出。