[发明专利]感射线性树脂组合物以及层间绝缘膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010104136.9 申请日: 2010-01-27
公开(公告)号: CN101788767A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: 花村政晓;长屋胜也;丸山拓之 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G03F7/075 分类号: G03F7/075
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 射线 树脂 组合 以及 绝缘 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种感射线性树脂组合物,其特征在于含有:

(A)碱可溶性树脂,该碱可溶性树脂是含有(a1)选自不饱和羧酸 和不饱和羧酸酐构成的群组中的至少一种和(a2)具有环氧基的聚合 性不饱和化合物的单体的共聚物;

(B)1,2-醌二叠氮化合物;以及

(C)含有(c1)下述式(10)表示的化合物、

(c2)下述通式(20)表示的化合物和

(c3)具有下述通式(3)表示的基团的聚合性不饱和化合 物、

(c4)具有碳原子数为1~8的烷基的聚合性不饱和化合 物、

(c5)一分子中具有2个以上不饱和键的聚合性不饱和 化合物的聚合性不饱和化合物的共聚物,相对于100质量份碱可溶 性树脂(A),共聚物(C)的使用比率为0.01~3质量份,

式(10)中,R1为氢原子或甲基,α为0~6的整数,β为1~20的整数,

式(20)中,R2为氢原子或甲基,R3为碳原子数为1~12的烷基,γ 为2或3,a为重复单元数,其平均数值为1~30,

式(3)中,R4、R5、R6、R7和R8各自独立地为碳原子数为1~20的 烷基、苯基或下述通式(4)表示的基团,b为0~3的整数,

式(4)中,R9、R10和R11各自独立地为碳原子数为1~20的烷基或苯 基,c为0~3的整数。

2.权利要求1所述的感射线性树脂组合物,其中上述化合物 (c1)为下述式(1)表示的化合物,上述化合物(c2)为下述通式(2)表示 的化合物,且(C)共聚物是由25~35质量%化合物(c1)、

20~30质量%化合物(c2)、15~20质量%化合物(c3)、25~35质 量%化合物(c4)和1~5质量%化合物(c5)组成的聚合性不饱和化合物 的共聚物,

CH2=CR1COO-CH2CH2C8F17   (1)

式(1)中,R1与上述式(10)中定义相同,

CH2=CR2COO-(C2H4O)aR3   (2)

式(2)中,R2和R3分别与上述式(20)中的定义相同,重复单元数a 的平均数值为4~12。

3.一种层间绝缘膜,其特征在于由权利要求1或2所述的感 射线性树脂组合物形成。

4.一种层间绝缘膜的形成方法,其特征在于按照以下顺序包 括以下工序:

(1)将权利要求1或2所述的感射线性树脂组合物涂敷在基板上 形成涂膜的工序,

(2)对该涂膜的至少一部分照射射线的工序,

(3)显影工序,和

(4)加热工序。

5.一种层间绝缘膜,其特征在于由权利要求4所述的方法形 成。

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