[发明专利]具有明亮的基准标记的微阵列及从其获得光学数据的方法

权利要求书

1.基底，包括：

设置于所述基底的表面上的基准标记；

所述基底的表面上的探针材料配置以固定于其上的区域，所述区域与所 述基准标记分开；和

设置于所述基底的表面上的探针材料配置以固定于其上的所述区域上 的探针固定化合物，

其中所述基准标记具有以比由所述基底上的不对应于所述基准标记的 区域所反射的照射光的强度大的强度将照射光反射的结构，

其中所述基准标记包括至少两个柱子，和

其中所述至少两个柱子之间的距离为0.001μm～10μm。

2.权利要求1的基底，其中所述至少两个柱子之间的距离小于接收由所 述基准标记所反射的照射光的光接收装置的分辨距离。

3.权利要求1的基底，其中所述至少两个柱子各自的宽度为 0.001μm～10μm。

4.权利要求1的基底，其中所述至少两个柱子的高度为 0.001μm～10000μm。

5.权利要求1的基底，其中所述基准标记的表面直接从那里将照射光反 射。

6.权利要求1的基底，其中所述照射光是以相对于所述基底表面大于 0°且小于90°的角度照射的。

7.微阵列，包括：

设置于基底的表面上的基准标记；

设置于所述基底的表面上并与所述基准标记分开的多个区域；

设置于所述基底的表面上的所述多个分开区域上的探针固定化合物；和

固定在设置于所述基底的表面上的所述多个分开区域上的所述探针固 定化合物的一部分上的至少一个探针；

其中所述基准标记具有以比由不对应于所述基准标记的区域所反射的 照射光的强度大的强度将照射光反射的结构，

其中所述基准标记包括至少两个柱子，和

其中所述至少两个柱子之间的距离为0.001μm～10μm。

8.制造具有基准标记的基底的方法，该方法包括：

提供基底；

在所述基底上设置第一材料层；

在所述第一材料层上设置光刻胶层；

通过掩模将所述光刻胶层曝光；

将所述光刻胶层显影；

蚀刻所述第一材料层的未被所述光刻胶层覆盖的至少一部分直至所述 基底的表面以形成基准标记；和

除去所述光刻胶层，

其中所述基准标记具有以比由所述基底上未形成所述基准标记的区域 所反射的照射光的强度大的强度将照射光反射的结构，

其中所述基准标记包括至少两个柱子，和

其中所述至少两个柱子之间的距离为0.001μm～10μm。

9.权利要求8的方法，进一步包括：

在所述第一材料层上形成所述光刻胶层之前，在所述第一材料层上设置 探针固定层。

10.权利要求8的方法，进一步包括：

在除去所述光刻胶层之后，在所述第一材料层上设置探针固定层。

11.权利要求9的方法，其中所述探针固定层的设置包括将固定化合物 固定在所述第一材料层上。

12.权利要求8的方法，其中所述掩模包括设置在对应于所述基准标记 的区域上方的至少一个间隙。