[发明专利]一种平板显示用玻璃基板蚀刻液有效
申请号: | 201010109119.4 | 申请日: | 2010-02-08 |
公开(公告)号: | CN101774767A | 公开(公告)日: | 2010-07-14 |
发明(设计)人: | 冯卫文 | 申请(专利权)人: | 绵阳艾萨斯电子材料有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅 |
地址: | 621000四川省绵*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 平板 显示 玻璃 蚀刻 | ||
技术领域
本发明涉及一种玻璃基板蚀刻液,特别是一种平板显示用玻璃基板蚀刻液。
背景技术
在平板显示领域中,包括等离子体显示(PDP)、触摸屏(TP)、液晶显示(LCD) 及有机电致发光(OLED)等制备工艺过程中,为了进一步减轻显示器件的重量,生 产厂家越来越多的采用将玻璃基板进行减薄的方法。通常使用的减薄方法有两种,一 种是物理方法,用抛光粉进行抛光研磨,这种方法减薄时间长,且产品良率低;另一 种方法为化学蚀刻法,这种方法减薄时间短,所使用的设备投入小,产品良率高,且 减薄液的成分简单,都是一些工业上常用的酸性物质,成本低廉。
目前,用化学方法进行减薄的生产厂家所采用的减薄液,基本都采用氢氟酸为主 要成分,还有一些厂家再辅助加入其它强酸。当蚀刻液中含有氢氟酸时,会存在以下问 题:1)氢氟酸毒性大,容易挥发,尤其是在配置时需要采用较高温度和浓度,不仅生 产过程中危险性高,而且会对环境造成巨大污染;2)蚀刻产生的副产物容易吸附在玻 璃、设备和管道表面,造成产品表面处理效果差、管道阻塞等问题;3)生产过程中蚀 刻速率不稳定,蚀刻液的利用率相对较低,由此还会造成废液处理量大,处理成本也 随之增高。
发明内容
本发明的目的是提供一种平板显示用玻璃基板蚀刻液。
本发明提供的平板玻璃蚀刻液,是由氟化氢吡啶盐、强酸、水和乙二胺四乙酸组 成;所述氟化氢吡啶盐、强酸和乙二胺四乙酸占所述平板玻璃蚀刻液总重的百分比分 别为:10-20%、30-70%和0.5-5%,余量为水。
上述蚀刻液中,所述氟化氢吡啶盐的结构式为
所述蚀刻液选自下述蚀刻液1′-26′中的任意一种:
由10-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0.5-5重量份的乙二胺四 乙酸和25-59.5重量份的水组成的蚀刻液1′;
由10-15重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0.5-5重量份的乙二胺四 乙酸和34.5-59.5重量份的水组成的蚀刻液2′;
由15-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0.5-5重量份的乙二胺四 乙酸和25-54.5重量份的水组成的蚀刻液3′;
由10-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-40重量份的强酸、0.5-5重量份的乙二胺四 乙酸和25-59.5重量份的水组成的蚀刻液4′;
由10-15重量份的氟化氢吡啶盐、30-40重量份的强酸、0.5-5重量份的乙二胺四 乙酸和34.5-59.5重量份的水组成的蚀刻液5′;
由10重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0.5重量份的乙二胺四乙酸和 59.5重量份的水组成的蚀刻液6′;
由10重量份的氟化氢吡啶盐、40重量份的硫酸、0.5重量份的乙二胺四乙酸和 49.5重量份的水组成的蚀刻液7′;
由10重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、0.5重量份的乙二胺四乙酸和 39.5重量份的水组成的蚀刻液8′;
由10重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、2重量份的乙二胺四乙酸和58 重量份的水组成的蚀刻液9′;
由10重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、2重量份的乙二胺四乙酸和38 重量份的水组成的蚀刻液10′;
由10重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和55 重量份的水组成的蚀刻液11′;
由10重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和35 重量份的水组成的蚀刻液12′;
由15重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0.5重量份的乙二胺四乙酸和 54.5重量份的水组成的蚀刻液13′;
由15重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、0.5重量份的乙二胺四乙酸和 34.5重量份的水组成的蚀刻液14′;
由15重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和50 重量份的水组成的蚀刻液15′;
由20重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0.5重量份的乙二胺四乙酸和 29.5重量份的水组成的蚀刻液16′;
由20重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、0.5重量份的乙二胺四乙酸和 29.5重量份的水组成的蚀刻液17′;
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