[发明专利]改良的基板无效边去除系统

权利要求书

1.一种改良的基板无效边去除系统，其特征在于其包括：

一床台，其内部设有一第一滑轨；

一基板乘载模组，设置于该第一滑轨之上，该基板乘载模组具有一基板载座，以乘载一待研磨基板；

一研磨轮乘载模组，装设于该床台之上，该研磨轮乘载模组具有至少一研磨轮机构，以对该待研磨基板执行无效区域的去除；及

至少一量测定位模组，装设于床台之上，该量测定位模组可于去除待研磨基板的无效区域之前，先对待研磨基板执行厚度量测以及定位量测，并经过计算之后，调整该研磨轮机构的高度与位置以完成位置补偿，并同时通过该基板载座，以对待研磨基板执行角度补偿，如此，可提高无效区域去除的精确度，以避免研磨轮机构于执行待研磨基板无效区域去除时，破坏了待研磨基板的有效区域。

2.根据权利要求1所述的改良的基板无效边去除系统，其特征在于其更包括一操作装置，装设于该床台之上，该操作装置可设定该改良的基板无效边去除系统，以手动地/自动地执行该待研磨基板的无效区域去除，操作装置并可进一步地设定改良的基板无效边去除系统的研磨工艺参数，以针对不同待研磨基板而适当地调整参数。

3.根据权利要求1所述的改良的基板无效边去除系统，其特征在于其中所述的床台更包括：

一第一驱动马达，装设于床台的内部，该第一驱动马达可带动该基板乘载模组于该第一滑轨上来回地移动；

一第一轴导螺杆，装设于床台的内部，且连接于第一驱动马达，基板乘载模组与该第一轴导螺杆组合，而跨坐于第一滑轨之上，因此，当第一驱动马达转动时，通过第一轴导螺杆可带动基板乘载模组于第一滑轨上来回地移动；

至少一量测定位模组装设孔，设置于床台之上，以装设该量测定位模组；及

至少一研磨轮乘载模组装设孔，设置于床台之上，以装设该研磨轮乘载模组。

4.根据权利要求3所述的改良的基板无效边去除系统，其特征在于其中所述的基板乘载模组更包括：

一第二驱动马达，连接于该基板载座，该第二驱动马达可将该待研磨基板旋转90°，亦可将待研磨基板旋转一θ角度，以执行角度补偿；及

一底座，设置于该第一滑轨之上以乘载第二驱动马达与基板载座，该底座具有一第一轴杆螺帽与一可掀盖，该第一轴杆螺帽装设于底座的底部，且，通过组合第一轴杆螺帽与该第一轴杆装置，使得基板乘载模组可于第一滑轨之上移动，而该可掀盖则用以覆盖及保护底座。

5.根据权利要求3所述的改良的基板无效边去除系统，其特征在于其中所述的研磨轮乘载模组更包括：

至少一装置支架，装设于该研磨轮乘载模组装设孔，以将整个研磨轮乘载模组稳固于该床台之上；

一龙门机架，装设于该装置支架之上，该龙门机架具有一第四滑轨，该研磨轮机构可于该第四滑轨之上移动；及

一清洁机构，装设于龙门机架之上，该清洁机构具有一喷水装置与一风刀，该喷水装置用以清洗残留于该基板载座上面的待研磨基板粉末以及砂轮磨粒，而该风刀用以去除该待研磨基板表面的水滴。

6.根据权利要求3所述的改良的基板无效边去除系统，其特征在于其中所述的量测定位模组更包括：

一模组支架，装设于该量测定位模组装设孔之上，以将整组量测定位模组固定于该床台之上，该模组支架具有一第二滑轨；

一移动轴，设置于模组支架之上，而可于该第二滑轨上移动；

一量测器乘载轴，装设于该移动轴之上，该量测器乘载轴用以乘载量测该待研磨基板的厚度与位置的量测组件；

至少一定位量测器，装设于量测器乘载轴之上，该定位量测器可接触待研磨基板，以量测待研磨基板于该基板载座上的位置；

至少一厚度量测器，装设于量测器乘载轴之上，以量测待研磨基板的厚度；

一放大器装置，装设于模组支架之上，以放大定位量测器与厚度量测器所量测的信号，并将其送至一外部电脑或一可程式自动化控制系统以执行计算；及

一量测模组壳体，用以包覆所有量测定位模组的构成元件，以发挥其保护作用。

7.根据权利要求1所述的改良的基板无效边去除系统，其特征在于其中所述的基板载座更包括：

多个长吸盘，设置于基板载座周边，以通过真空吸力的作用，将该待研磨基板吸附于基板载座之上；及

多个真空共用吸盘，设置于基板载座内部，以通过真空吸力的作用，将待研磨基板吸附于基板载座之上。