[发明专利]非线性电路的晶体管级分段线性建模及模型降阶方法有效
申请号: | 201010117126.9 | 申请日: | 2010-03-03 |
公开(公告)号: | CN102194017A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 曾璇;杨帆;潘晓达 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 包兆宜 |
地址: | 20043*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 非线性 电路 晶体管 分段 线性 建模 模型 方法 | ||
1.一种非线性电路的晶体管级分段线性建模及模型降阶方法,其特征在于,其包括如下步骤:
步骤1:将非线性系统的线性化模型通过stamp方法表示为非线性电路中所有晶体管和线性元件的贡献的组合形式;
步骤2:构造每个晶体管的分段线性模型,并通过加权函数组合在一起,构成整个非线性电路的分段线性模型;
步骤3:对非线性电路的晶体管级的分段线性模型进行投影降阶,获得降阶模型。
2.按权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤1中,所述非线性系统的线性化模型表示为
其中C和G分别是f(x)和g(x)的雅可比矩阵,I(x)=f(x)-G(x)x。
3.按权利要求2所述的方法,其特征在于,矩阵C、G和矢量I分别表示为:
其中CL,GL和IL代表线性元件的贡献,Cmi,Gmi和Imi表示第i个晶体管对矩阵的贡献,N表示电路中的晶体管数目;CL和GL是常矩阵,IL是常向量,Cmi,Gmi和Imi是关于x的函数,表示非线性元件的贡献。
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