[发明专利]非线性电路的晶体管级分段线性建模及模型降阶方法有效

专利信息
申请号: 201010117126.9 申请日: 2010-03-03
公开(公告)号: CN102194017A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 曾璇;杨帆;潘晓达 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 包兆宜
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 非线性 电路 晶体管 分段 线性 建模 模型 方法
【权利要求书】:

1.一种非线性电路的晶体管级分段线性建模及模型降阶方法,其特征在于,其包括如下步骤:

步骤1:将非线性系统的线性化模型通过stamp方法表示为非线性电路中所有晶体管和线性元件的贡献的组合形式;

步骤2:构造每个晶体管的分段线性模型,并通过加权函数组合在一起,构成整个非线性电路的分段线性模型;

步骤3:对非线性电路的晶体管级的分段线性模型进行投影降阶,获得降阶模型。

2.按权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤1中,所述非线性系统的线性化模型表示为

C(x)d(x(t))dt+G(x)x(t)+I(x)=Bu(t)]]>

其中C和G分别是f(x)和g(x)的雅可比矩阵,I(x)=f(x)-G(x)x。

3.按权利要求2所述的方法,其特征在于,矩阵C、G和矢量I分别表示为:

C(x)=CL+Σi=1NCmi(x)]]>

G(x)=GL+Σi=1NGmi(x)]]>

I(x)=IL+Σi=1NImi(x)]]>

其中CL,GL和IL代表线性元件的贡献,Cmi,Gmi和Imi表示第i个晶体管对矩阵的贡献,N表示电路中的晶体管数目;CL和GL是常矩阵,IL是常向量,Cmi,Gmi和Imi是关于x的函数,表示非线性元件的贡献。

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