[发明专利]离子发生装置及具备该装置的美容装置无效
| 申请号： | 201010121268.2 | 申请日： | 2010-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN101804244A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | 谷口真一 | 申请（专利权）人： | 松下电工株式会社 |
| 主分类号： | A61N1/44 | 分类号： | A61N1/44 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 杨谦;胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子 发生 装置 具备 美容 | ||
【权利要求书】：
1.一种离子发生装置，具有离子放射用的第1电极和低电位方的第2电极，基于对上述第1电极施加高电压使两个电极间产生放电来发生离子，其特征为，
具备电位设定机构，将上述第2电极设定为上述第1电极的电位与接地电位之间的电位。
2.如权利要求1所述的离子发生装置，其特征为，
上述电位设定机构由连接于上述第2电极和接地之间的电阻构成。
3.一种美容装置，其特征为，
具备权利要求1或2所述的离子发生装置。
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