[发明专利]一种底栅型FED下板图形的制作方法

权利要求书

1.一种底栅型FED下板图形的制作方法，其特征在于，该方法通过 以下步骤来实现：

1)制备感光银浆；

2)在清洁处理后的阴极玻璃基板(4)上，通过光刻法采用步骤1)中 感光银浆制作栅极层(5)的图形；

3)在制作好的栅极层(5)上，印刷制作一层或多层绝缘层图形，并 在530～590℃，烧结20～30min，得到阴极电阻层(6)；

4)在上述阴极电阻层(6)上通过光刻法采用感光银浆制作一层阴极 层(7)的图形；

5)在步骤4)的基板上填充一层光刻胶(p)，采用正性光刻胶或者负 性光刻胶填充：

采用负性光刻胶填充时，用印刷法直接使用相应图形的漏印版印刷至 基板上后，于90～130℃干燥10～30min；

采用正性光刻胶填充时，先用印刷法印刷以将阴极层(7)图形的基板 整面印刷一层正性光刻胶，采用75～100℃干燥8～30min后，采用相应掩 膜图形紫外灯下曝光，曝光量为50～500mJ/cm²；用当量浓度为0.26的四 甲基氢氧化铵TMAH显影液在15～25℃，显影10～50S；即可得到阴极线 条间隙填充图形；

6)制作阴极发射体(8)，即碳纳米管，采用电泳、印刷或光刻方法制 作阴极发射体(8)；

7)去除光刻胶(p)：

填充物为正性光刻胶，采用紫外曝光法，无掩膜遮挡曝光后显影液除 去，曝光量和显影液同步骤5)；

填充物为负性光刻胶，直接用质量百分比浓度为0.2～1％的Na₂CO₃显影 液显影10～200s除去；

即可得到完整的底栅型FED下基板结构。

2.根据权利要求1所述的一种底栅型FED下板图形的制作方法，其 特征在于，所述该感光银浆由60重量份的银单体、30重量份的甲基丙烯 酸树脂、4重量份的光引发剂2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、5重 量份的2，2，4-三甲基-1，3戊二醇单异丁酸酯和1重量份的高分子分散剂 BYK410混合研磨均匀构成。

3.根据权利要求1所述的一种底栅型FED下板图形的制作方法，其 特征在于，所述填充负性光刻胶，该负性光刻胶由下述重量份数的原料混 合均匀配制而成：

甲基丙烯酸树脂                         80～90；

光引发剂                               1～5；

2，2，4-三甲基-1，3戊二醇单异丁酸酯    5～15；

高分子分散剂                           0.5～1。

4.根据权利要求1所述的一种底栅型FED下板图形的制作方法，其 特征在于，所述填充正性光刻胶，该正性光刻胶由下述重量份数的原料混 合均匀配制而成：

2-重氮-1-萘醌                        5～20；

酚醛甲醛                             20～60；

丙二醇甲醚醋酸酯                     25～70。

5.根据权利要求3所述的一种底栅型FED下板图形的制作方法，其 特征在于，所述光引发剂为2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯或2-甲 基-1-[4-甲硫基苯基]-2-吗啉基-1-丙酮。

6.根据权利要求3所述的一种底栅型FED下板图形的制作方法，其 特征在于，所述高分子分散剂为高分子嵌段共聚物；具体为BYK410、 BYK140、BYK2025、BYK180或BYK171。

7.根据权利要求1所述的一种底栅型FED下板图形的制作方法，其 特征在于，所述制作栅极层(5)图形或制作阴极层(7)图形包括如下步 骤：

a)清洁处理后的阴极玻璃基板(4)上，印刷一层或多层感光银浆， 制备银电极层；

b)将步骤a)中基板置于烘箱中烘烤，烘烤温度为80～120℃、烘烤 时间为10～40min，然后自然冷却；

c)采用所需栅极层(5)或阴极层(7)图形的掩膜版做掩膜，将上述 做掩膜后的基板置于紫外灯下曝光，曝光量为100～800mJ/cm²；

d)上述曝光过的基板采用质量百分比浓度为0.2～1％的Na₂CO₃溶液显 影，显影压力为1.5kgf/cm²，显影时间为10～50S，得到所需栅极层(5) 或阴极层(7)图形；

e)将上述处理后的栅极层或阴极层图形烧结：在500～590℃下保温 10～20min。