[发明专利]半导体发光器件有效
申请号: | 201010121557.2 | 申请日: | 2010-02-20 |
公开(公告)号: | CN101807635A | 公开(公告)日: | 2010-08-18 |
发明(设计)人: | 丁焕熙 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | H01L33/10 | 分类号: | H01L33/10;F21S8/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 顾晋伟;王春伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 发光 器件 | ||
背景技术
实施方案涉及半导体发光器件及其制造方法。
第III-V族氮化物半导体由于其物理和化学特性作为发光二极管 (LED)或激光二极管(LD)的核心材料而受到关注。例如,第III-V 族氮化物半导体包括具有组成式InxAlyGa1-x-yN(0≤x≤1,0≤y≤1和0 ≤x+y≤1)的半导体材料。
LED是一种利用化合物半导体的特性将电转变成光从而发射信号 的半导体器件,LED用作光源。
使用这类氮化物半导体的LED或LD主要用于发光器件以获得光, 并且已经作为光源应用于各种设备(例如移动电话的键盘的发光部分、 电子公告板和照明设备)。
发明内容
实施方案提供一种半导体发光器件及其制造方法,其能够防止从发 光结构横向侧引起的光效率损失。
实施方案涉及一种半导体发光器件及其制造方法,其能够通过在隔 离层之间插入金属层而防止分层和断裂。
根据一个实施方案,半导体发光器件包括:包括第一导电半导体层、 有源层和第二导电半导体层的发光结构;在所述发光结构下沿所述发光 结构的外周部分形成的多个隔离层;插入所述隔离层之间的金属层;和 在所述发光结构之下形成的第二电极层。
根据一个实施方案,半导体发光器件包括:包括第一导电半导体层、 有源层和第二导电半导体层的发光结构;在所述发光结构之下沿所述发 光结构的外周部分设置的第一隔离层;设置在所述第一隔离层之下的金 属层;设置在所述金属层之下的第二隔离层;和设置在所述发光结构之 下的第二电极层。
根据一个实施方案,一种制造半导体发光器件的方法如下:形成包 括第一导电半导体层、有源层和第二导电半导体层的发光结构;沿所述 发光结构的外周部分形成第一隔离层;在所述第一隔离层上形成金属 层;在所述金属层上形成第二隔离层;在所述发光结构和所述第二隔离 层上形成第二电极层。
如上所述,根据实施方案,可以提高发光结构和其它层之间的粘合 强度。
根据实施方案,可以提高半导体发光器件的光提取效率,并且可以 防止分层。
附图说明
图1是显示根据一个实施方案的半导体发光器件的截面视图;和
图2~9是依次显示根据该实施方案的半导体发光器件的制造工艺的 截面视图。
具体实施方式
在实施方案的说明中,应当理解,当称层(或膜)、区域、图案或结构 在另一衬底、另一层(或膜)、另一区域、另一垫或另一图案的“上/上方” 或“下/下方”时,其可以“直接”或“间接”位于所述另一基底、层(或 膜)、区域、垫或图案之上/下,或者也可以存在一个或更多个中间层。这 种层的位置是参照附图描述的。
在关于实施方案的说明中,附图中显示的元件的厚度或尺寸仅用于举 例说明的目的,但是实施方案不限于此。
下文将关于附图描述实施方案。
图1是显示根据实施方案的半导体发光器件100的视图。
参照图1,根据一个实施方案的半导体发光器件100包括发光结构110、 第一电极层119、第一隔离层120、金属层122、第二隔离层124、第二电 极层130和导电支撑构件140。
发光结构110包括第一导电半导体层111、有源113和第二导电半导体 层115。有源层113置于第一和第二导电半导体层111和115之间。
第一导电半导体层111可以通过使用掺杂有第一导电掺杂剂的至少一 个半导体层来实现。例如,第一导电半导体层111可以通过使用第III-V 族化合物半导体来实现。换言之,第一导电半导体层111可由GaN、InN、 AlN、InGaN、AlGaN、InAlGaN和AlInN中的至少一种形成。如果第一 导电半导体层111是N型半导体层,则第一导电掺杂剂可以为N型掺杂剂。 例如,所述N型掺杂剂可以选自第V族元素。
第一导电半导体层111可以设置为其上具有有预定图案的第一电极层 119。此外,可以在第一导电半导体层111的部分顶表面上或第一导电半导 体层111的整个部分的顶表面上形成凹凸状粗糙结构。
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