[发明专利]一种反射板及其制备方法无效
| 申请号： | 201010122138.0 | 申请日： | 2010-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN101782215A | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 马慧军 | 申请（专利权）人： | 苏州锦富新材料股份有限公司;马慧军 |
| 主分类号： | F21V7/10 | 分类号： | F21V7/10;F21V7/22 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215126 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 反射 及其 制备 方法 | ||
1.一种反射板，所述反射板包括：一基材层、一反射层，所述基材层和反射层通过粘结剂层粘结；其特征在于，所述粘结剂层的厚度为0.01mm～0.2mm；所述粘结剂层的近反射层的上表面设有凸起和凹陷，所述反射层表面相应设有凸起和凹陷，所述凸起和凹陷的高度差为0.005mm～0.5mm；所述相邻的凸起间距为0.05mm～20mm，所述相邻的凹陷间距为0.05mm～20mm。
2.根据权利要求1所述的反射板，其特征在于，所述反射层的厚度为0.038mm～0.3mm。
3.根据权利要求1所述的反射板，其特征在于，所述凸起和凹陷的高度差为0.005mm～0.1mm。
4.根据权利要求1所述的反射板，其特征在于，所述相邻的凸起间距为0.05mm～0.5mm，所述相邻的凹陷间距为0.05mm～0.5mm。
5.根据权利要求1所述的反射板，其特征在于，所述反射层的材料选自：聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或聚乙烯膜。
6.一种反射板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)在基材层上设置一粘结剂层，所述粘结剂层的厚度为0.01mm～0.2mm，所述粘结剂层的近反射层的上表面设有凸起和凹陷，所述凸起和凹陷的高度差为0.005mm～0.5mm；所述相邻的凸起间距为0.05mm～20mm，所述相邻的凹陷间距为0.05mm～20mm；
(2)将反射层与基材层通过粘结剂层复合，复合后，反射层表面产生凸起和凹陷，所述凸起和凹陷的高度差为0.005mm～0.5mm；所述相邻的凸起间距为0.05mm～20mm，所述相邻的凹陷间距为0.05mm～20mm。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在粘结剂层表面设置凸起和凹陷的方法采用印制涂胶法，直接印制具有凸起和凹陷形状的黏胶层。
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在粘结剂层表面设置凸起和凹陷的方法包括以下步骤：设置一层表面为平面的黏胶层，然后滚压形成凹陷和凸起结构。
9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述反射层的厚度为0.038mm～0.3mm；所述凸起和凹陷的高度差为0.005mm～0.1mm；所述相邻的凸起间距为0.05mm～0.5mm，所述相邻的凹陷间距为0.05mm～0.5mm。
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