[发明专利]异物检查和去除装置及异物检查去除程序

权利要求书

1.一种异物检查和去除装置，其特征在于包括：

异物信息获取部，获取附着在基板表面的异物的异物信息；

异物去除部，将所述附着的异物予以去除；

比较部，对针对所述基板表面的各区域设定的用于进行异物去除的条件、与由所述异物信息获取部获取的各区域的异物信息进行比较；以及

异物去除控制部，当所述比较部的比较结果表示所述异物信息满足所述条件时，利用所述异物去除部来将所述基板表面的异物予以去除。

2.根据权利要求1所述的异物检查和去除装置，其特征在于：

所述基板为用于将电路图案转印至半导体晶片上的掩模或安装着表膜的掩模，且所述各区域针对该掩模上所形成的各个不同的电路图案设定。

3.一种异物检查去除程序，使用获取附着在基板表面的异物的异物信息的异物信息获取部、以及将所述附着的异物予以去除的异物去除部，来对附着在基板表面上的异物进行检查并将该异物予以去除，

此程序的特征在于使电脑作为如下各部分来发挥功能：

比较部，对针对所述基板表面的各区域设定的用于进行异物去除的条件、与由所述异物信息获取部获取的各区域的异物信息进行比较；以及

异物去除控制部，当所述比较部的比较结果表示所述异物信息满足所述条件时，利用所述异物去除部来将所述基板表面的异物予以去除。