[发明专利]形成反射电极的方法、驱动基板和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及用于显示装置(例如，液晶显示装置)的反射电极的形成方 法，并且涉及包括该反射电极的驱动基板和显示装置。

背景技术

当前，与包括所谓背光的透射式液晶装置不同，在用于移动设备等的反 射式液晶装置中，采用从周围环境入射的光来进行显示。从而，必须将从周 围环境入射的光反射到观看者侧，并尽可能地减少光的损耗。

作为反射式液晶装置中采用的反射层，例如，已经采用了LCC(Liquid Crystal Cell：液晶单元)内漫射反射板法，LCC外反射板法和前散射反射板 法，并且在上述的方法当中，LCC内漫射反射板法因其明显优良的显示特性 而被频繁采用。

当用作像素电极的铝(Al)、银(Ag)等金属薄膜形成为具有凹凸表面 时，可以获得LCC内漫射反射板法中采用的反射电极。具体地，会涉及下 面的方法。就是说，例如，在薄膜晶体管(TFT)形成在基板上后，层间绝 缘膜形成在TFT上，并且在该层间绝缘膜的表面通光刻法被图案化后，通过 进行热处理而形成凹凸形状。随后，要形成反射电极的金属薄膜通过真空薄 膜形成方法形成在基板的整个表面上，然后通过光刻法被图案化(见日本专 利第3895059和3866522号)。另外，还可以采用下面的方法。在该方法中， 在TFT形成在基板上后，将树脂膜形成在TFT上并在它们之间插设层间绝 缘膜，由此形成的树脂膜通过光刻法图案化为条形形状，并且进行热处理而 使这样图案化的树脂膜变形。随后，在将树脂进一步涂覆在变形的树脂膜上 以形成光滑的凹凸表面后，要形成反射电极的金属薄膜通过真空沉积形成在 基板的整个表面上，并且该金属薄膜通过光刻法图案化(日本专利申请公开 第2002-229060号)。

与通过喷砂法等直接使电极表面粗糙化的方法以及在锥度蚀刻 (taper-etch)二氧化硅(SiO₂)等后形成金属薄膜的方法相比，上述各方法 都具有对元件不造成工艺损伤的优点。另外，因为可以容易地控制光滑的凹 凸形状，所以上述方法被一直广泛采用。

发明内容

然而，根据上述方法，必须采用利用抗蚀剂(光致抗蚀剂树脂)材料的 光刻法，以控制层间绝缘膜的形状并在金属膜形成后对其图案化，结果，不 利地增加了上述方法中的步骤数。

本发明考虑到上述的问题并且希望提供通过简单的工艺形成反射电极 的方法，并希望提供采用上述反射电极的驱动基板和显示装置。

根据本发明的实施例，所提供的形成反射电极的方法包括下面的步骤 (A1)至(D1)。就是说，该方法包括：步骤(A1)，在基板的电极形成区 域的第一区域中形成第一催化层；步骤(B1)，通过进行第一无电镀敷处理， 在第一催化层上形成第一镀敷层；步骤(C1)，至少在电极形成区域的第一 区域之外的区域(第二区域)中形成第二催化层；以及步骤(D1)，通过进 行第二无电镀敷处理，在第二催化层上形成第二镀敷层，从而反射电极形成 为具有凹凸表面。

根据本发明的实施例，所提供的驱动基板包括：基板，包括在电极形成 区域中的具有凹凸表面的反射电极。反射电极具有：第一催化层(A2)，提 供在电极形成区域的第一区域中；第一镀敷层(B2)，提供在第一催化层上； 第二催化层(C2)，至少提供在电极形成区域的第一区域之外的区域(第二 区域)中；以及第二镀敷层(D2)，提供在第二催化层上。

根据本发明的实施例，所提供的显示装置包括：驱动基板，具有提供在 电极形成区域中的反射电极；以及显示部分，采用反射电极反射的入射光进 行显示。

在上述显示装置中，从外部入射的光被每个都由第一和第二镀敷层形成 的反射电极的凹凸部分有效地反射，然后传播到显示部分侧(例如液晶层)； 因此而进行显示。

在根据本发明实施例的形成反射电极的方法中，在基板上的电极形成区 域的第一区域上选择性地进行第一无电镀敷处理而形成第一镀敷层之后，在 余下的第二区域上进行第二无电镀敷处理；因此，可以在所希望的区域中形 成具有凹凸形状的反射电极。从而，与采用光刻法的相关情况相比，可以通 过简单的步骤形成反射电极。另外，可以减少光敏树脂的使用量，因此可以 降低成本。结果，通过采用上述方法，可以制作出便宜的驱动基板和便宜的 显示装置。

附图说明

图1是示出根据本发明第一实施例的显示装置的结构的截面图；