[发明专利]1-N-乙基庆大霉素C1a的制备方法

权利要求书

1.一种1-N-乙基庆大霉素C_1a的制备方法，其特征在于具有以下步骤：

①将3,2',6'-三-N-乙酰基庆大霉素C_1a与六甲基二硅胺烷在三氯甲烷溶剂中，在浓硫酸的催化作用下加热至回流而发生生成3,2',6'-三-N-乙酰基-5,2”,4”-三（三甲基硅基）庆大霉素C_1a的硅烷化反应，直至反应完全；

②将步骤①得到的3,2',6'-三-N-乙酰基-5,2”,4”-三（三甲基硅基）庆大霉素C_1a与乙醛在二氯甲烷溶剂中在8℃～12℃的温度下进行生成3,2',6'-三-N-乙酰基-5,2”,4”-三（三甲基硅基）乙亚胺庆大霉素C_1a的N-烷基化反应；接着再与硼氢化钾发生生成3,2',6'-三-N-乙酰基-5,2”,4”-三（三甲基硅基）-1-N-乙基庆大霉素C_1a的还原反应，直至反应完全；

③用NaOH溶液水解步骤②得到的3,2',6'-三-N-乙酰基-5,2”,4”-三（三甲基硅基）-1-N-乙基庆大霉素C_1a得到1-N-乙基庆大霉素C_1a的水解液；

④对步骤③得到的1-N-乙基庆大霉素C_1a水解液进行后处理得到1-N-乙基庆大霉素C_1a成品。

2.根据权利要求1所述的1-N-乙基庆大霉素C_1a的制备方法，其特征在于：步骤①中的六甲基二硅胺烷与3,2',6'-三-N-乙酰基庆大霉素C_1a的摩尔比为1.5∶1～5∶1；浓硫酸与3,2',6'-三-N-乙酰基庆大霉素C_1a的摩尔比为1∶20～1∶30。

3.根据权利要求2所述的1-N-乙基庆大霉素C_1a的制备方法，其特征在于：步骤①中的六甲基二硅胺烷与3,2',6'-三-N-乙酰基庆大霉素C_1a的摩尔比为4∶1。

4.根据权利要求1所述的1-N-乙基庆大霉素C_1a的制备方法，其特征在于：步骤②的乙醛与步骤①中的3,2',6'-三-N-乙酰基庆大霉素C_1a的摩尔比为0.5∶1～2∶1。

5.根据权利要求4所述的1-N-乙基庆大霉素C_1a的制备方法，其特征在于：步骤②的乙醛与步骤①中的3,2',6'-三-N-乙酰基庆大霉素C_1a的摩尔比为1∶1。

6.根据权利要求1所述的1-N-乙基庆大霉素C_1a的制备方法，其特征在于：步骤②中所述的还原反应在硼酸缓冲液中进行，硼酸缓冲液的pH为9～10。

7.根据权利要求1所述的1-N-乙基庆大霉素C_1a的制备方法，其特征在于：步骤④中所述的后处理是：将水解液通入弱酸性的树脂分离柱中上柱，然后用纯化水洗柱8h～9h，再用氨水溶液解析，至出口无旋光时换成乙醇水溶液解析，收集出口处纯度≥90%的有效组分，收集液经浓缩、干燥后得到1-N-乙基庆大霉素C_1a。

8.根据权利要求7所述的1-N-乙基庆大霉素C_1a的制备方法，其特征在于：步骤④中的氨水溶液的浓度为0.1mol/L～0.4mol/L。

9.根据权利要求7所述的1-N-乙基庆大霉素C_1a的制备方法，其特征在于：步骤④中的乙醇水溶液的浓度为25wt%～40wt%。

10.根据权利要求1至9之一所述的1-N-乙基庆大霉素C_1a的制备方法，其特征在于：步骤①中，在硅烷化反应完全后，蒸干三氯甲烷溶剂而得到3,2',6'-三-N-乙酰基-5,2”,4”-三（三甲基硅基）庆大霉素C_1a；步骤②的N-烷基化反应是直接将步骤①得到的体系降温至20℃～25℃，加入二氯甲烷，继续降温至8℃～12℃，再加入乙醛，搅拌下发生生成3,2',6'-三-N-乙酰基-5,2”,4”-三（三甲基硅基）乙亚胺庆大霉素C_1a的N-烷基化反应；步骤②中，在还原反应完全后，加热回流蒸干二氯甲烷溶剂而得到3,2',6'-三-N-乙酰基-5,2”,4”-三（三甲基硅基）-1-N-乙基庆大霉素C_1a；步骤③的水解是直接对步骤②得到的体系加入NaOH溶液，加热回流对3,2',6'-三-N-乙酰基-5,2”,4”-三（三甲基硅基）-1-N-乙基庆大霉素C_1a进行水解直至水解完全后，降温而得到1-N-乙基庆大霉素C_1a的水解液。