[发明专利]用于高流速真空起泡器容器的防溅器

说明书

背景技术

电子制造业使用化学前体贮存器(container)，其将液态化学品转换成化学品蒸气，以便输送给电子制造反应器(即，处理装置)，从而用于实施化学气相沉积(CVD)。CVD是一种受欢迎的技术，用于在电子制造的构造(例如，集成电路或计算机芯片)中形成层、膜、以及其它沉积物。因为大量化学前体的存储和运输效率问题，所以优选液体或固体作为供应源，但是工业实践中常常优选在处理装置现场以蒸气形式实际输送化学前体，即，CVD。替代性地，使用直接液体喷射(DLI)来实施某些制造，但即使这样，液体在输送后也会在处理装置内蒸发。

当为了CVD而采用蒸气输送时，贮存器通常让惰性载气穿过该贮存器或者起泡装置(即，起泡器)，以便将携带在该惰性载气内的化学前体蒸气运送到处理装置。起泡器通常具有下管入口，载气自该下管入口处被引入到贮存器中并处于液态化学前体的表面下，其中载气向上穿过该液态化学前体从而起泡，随着载气作为气泡浮出液体表面并且通过设置在化学前体液面上方的出口排出贮存器或起泡器时，该载气携带了化学前体。

使化学前体以液态形式(即使是作为小液滴)通过出口离开贮存器是人们不期望的。均质蒸气被优选作为这种起泡器的分配产品。这避免了腐蚀、清理、不均匀流动、以及悬浮滴等问题，其中悬浮滴在生产制造期间以及断开贮存器期间可能会在出口内积累并且形成颗粒。

工业实践中针对该问题尝试了用于起泡器的各种形式的防溅器，例如在US 2008/0143002、US 6,520,218、EP 1329540、US2004/0013577、EP0420596、US 5,589,110、US 7,077,388、US2003/0042630、US 5,776,255、以及US 4,450,118。这些尝试中的每一个都仅仅提供了比期望性能更少的防溅器功能，但是如下面所公开的那样，本发明成功地提供了高水平的防溅器功能，同时仍然允许化学前体的高流速或者允许在高真空或高压力差条件下的流动，如下文将要描述和说明的那样。

发明内容

本发明涉及一种贮存器，其具有：终止在贮存器底座邻近处的浸管入口；定位在浸管出口和贮存器出口之间的至少一个挡盘，其被配置成在该挡盘和贮存器侧壁内表面之间提供狭窄的环状空间；以及位于侧壁上的径向向内伸出的环状偏转突出部，其邻近该挡盘；该挡盘和偏转突出部能够将液滴减至最少，以免其进入贮存器出口。

本发明还涉及一种从贮存器输送化学前体蒸气的方法，该方法包括：使载气通过贮存器的浸管；从该贮存器中将液态化学前体携带到该载气中；使该载气和所携带的化学前体经过侧壁上的径向向内伸出的环状偏转突出部和位于狭窄的环状空间内的挡盘，其中所示狭窄的环状空间是该挡盘的最外缘和贮存器侧壁内表面之间的环状空间。

附图说明

图1是以局部剖面形式示出本发明一个实施例的示意性侧视图。

图2是以剖面图形式示出本发明一个实施例的示意性局部侧视图。

具体实施方式

本发明涉及一种蒸气生成起泡器贮存器(vapor generation bubblercontainer)，其被设计用在高真空或高流率条件中。该设计防止了飞溅，并且还防止了将悬浮滴输送到出口输送管线中，这两者都会导致不稳定的化学品质量流输送。

半导体制造商致力于使用高价值的化学物质，这些化学物质越来越难以传送，以便在真空腔室或处理装置中沉积在晶片上。本发明的起泡器容器允许液态化学物质在高真空条件下从贮存器作为蒸气进行输送，而没有飞溅，也不会在贮存器出口内形成悬浮滴，这两者都会导致不稳定化学品质量输送率。本发明具有一种下表面设计，其使带有化学品蒸气的载气的恒定饱和度能够下降至剩余化学物质的一个非常低的水平。而且，本发明防止了飞溅和进入到贮存器出口内的悬浮滴的形成(即使贮存器内的化学品水平(即液位)很高)，而这两者都会导致不稳定的化学品质量输送率。以前，用于高真空使用或高流率使用的贮存器必须与仅部分装料的化学品一起使用(即，50％的装满程度)。这就需要半导体制造商更加频繁地更换贮存器(取下处理装置)，并且因为增加了贮存器的处理费用，所以增加了化学品的成本。本发明使得贮存器从装满的液态化学品水平到降低至非常低水平都能够使用，并且减少了半导体处理装置的停工时间。同样，由于在出口内能够对化学品悬浮颗粒有效地进行限制，所以本发明能够减少颗粒生成，该颗粒生成可能来自于沉积在出口内以及到处理腔室或处理装置的所有输送管道内的悬浮滴的退变。在本说明书中，本发明优选具有圆筒形状的贮存器，而且圆筒轴线位于竖直平面内。因而，对轴向和径向的描述都是相对于这类贮存器形状和取向而言的。