[发明专利]具有集成式光学结构的空间光调制器无效
申请号: | 201010140527.6 | 申请日: | 2005-02-02 |
公开(公告)号: | CN101799582A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 克拉伦斯·徐;杰弗里·B·桑普塞尔;威廉·J·卡明斯;唐明华 | 申请(专利权)人: | 高通MEMS科技公司 |
主分类号: | G02B26/00 | 分类号: | G02B26/00;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京律盟知识产曟代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 沈锦华 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 集成 光学 结构 空间 调制器 | ||
1.一种显示装置,其包括:
衬底;
经构造以形成图像的显示像素阵列,每个显示像素包括至少一个可单独寻址的光调制元件,其布置于所述衬底上方并经构造以对透射过所述衬底的光进行干涉式调制,所述可单独寻址的光调制元件包括干涉调制器;及
光学补偿结构,
其中,所述显示像素阵列布置于所述衬底和所述光学补偿结构之间,且
其中,所述光的一部分透射过所述衬底和单个光调制元件到达所述光学补偿结构。
2.如权利要求1所述的显示装置,其中所述干涉式调制器包括可移动元件和空腔。
3.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括黑色掩膜。
4.如权利要求1或3所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括滤色镜。
5.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括漫射体。
6.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括抗反射层。
7.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括复数个散射元件。
8.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括微透镜阵列。
9.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括衍射式光学元件。
10.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括平坦化层,所述平坦化层包括散射元件。
11.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括全息膜,所述全息膜用于减轻对于透射过所述衬底的所述光的入射角的所反射色彩的色移。
12.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括黑色掩膜和滤色镜。
13.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括黑色掩膜和漫射体。
14.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构包括滤色镜和漫射体。
15.如权利要求1所述的显示装置,其进一步包括平坦化层。
16.如权利要求1所述的显示装置,其中所述衬底为至少局部透明的。
17.如权利要求1所述的显示装置,其中所述衬底为局部反射性的。
18.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光学补偿结构式为无源式光学补偿结构。
19.如权利要求1所述的显示装置,其中所述衬底为至少局部透明且局部反射性的。
20.如权利要求1所述的显示装置,其中所述光调制元件是反射性的。
21.一种用于制造显示装置的方法,其包括:
制作经构造以形成图像的显示像素阵列,每个显示像素包括在衬底上方的至少一个可单独寻址的光调制元件,所述可单独寻址的光调制元件包括干涉调制器;及
在所述显示像素阵列上制作光学补偿结构,其中,所述光的一部分透射过所述衬底和单个光调制元件到达所述光学补偿结构。
22.如权利要求21所述的方法,其中制作所述可单独寻址的光调制元件包括:
制作空腔和可移动元件。
23.如权利要求21所述的方法,其进一步包括:
在所述显示像素阵列上制作平坦化层。
24.一种通过如权利要求21所述的方法制作的空间光调制器,其中所述衬底包括塑料或玻璃。
25.一种显示装置,其包括:
衬底;
经构造以形成图像的显示像素阵列,每个显示像素包括用于对透射过所述衬底或从所述衬底反射的光进行干涉式调制的装置;及
用于对透射过所述衬底或从所述衬底反射的光进行补偿的装置,
其中,所述用于对透射过所述衬底或从所述衬底反射的光进行干涉式调制的装置可操作地布置于所述衬底和所述用于对所述光进行补偿的装置之间,
其中,所述用于对透射过所述衬底或从所述衬底反射的光进行补偿的装置包括至少一个干涉调制器,且
其中,所述光的一部分透射过所述衬底和单个干涉调制器到达所述补偿装置。
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