[发明专利]电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置

权利要求书

1.一种电感耦合等离子处理装置的罩固定器具，该电感耦合等离子处理装置包括：处理室，其具有构成顶板部分的窗构件，用于进行等离子处理；高频天线，其被配置在上述窗构件的上方，用于在上述处理室内形成感应电场；支承构件，其用于支承上述窗构件；罩，用于覆盖上述窗构件的下表面，上述罩固定器具用于上述电感耦合等离子处理装置，用于固定上述罩，其特征在于，

包括：

支承部，其用于对具有作为上述罩的一部分的下表面的被支承部进行支承；

被固定部，其被固定于上述支承构件。

2.根据权利要求1所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具，其特征在于，

上述电感耦合等离子处理装置的罩固定器具还具有用于将上述被固定部固定于上述支承构件的螺钉。

3.根据权利要求2所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具，其特征在于，

上述螺钉的头部被配置在上述支承构件的上方，上述螺钉的杆部贯穿上述支承构件而与上述被固定部相结合。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具，其特征在于，

上述支承部包括：抵接于上述被支承部的下表面的上表面；随着远离上述被固定部而与上述上表面的距离变小的下表面。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具，其特征在于，

上述被支承部的下表面是上述罩的下表面的一部分，在上述罩的下表面，以上述被支承部的下表面位于除上述被支承部之外的部分的下表面的上方的方式形成有台阶部；

上述支承部被配置在上述罩的下表面上的上述台阶部。

6.根据权利要求5所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具，其特征在于，

上述支承部具有与上述台阶部的台阶相等的厚度。

7.根据权利要求1所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具，其特征在于，

上述电感耦合等离子处理装置的罩固定器具还包括如下形状的侧部：在2个罩固定器具沿水平方向相邻地配置时、2个罩固定器具的侧部相互啮合。

8.根据权利要求1所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具，其特征在于，

上述罩包括罩主体，该罩主体具有下表面和上表面，构成罩的主要部分，上述被支承部被配置在上述罩主体的上表面的上方；

上述支承部被配置在上述被支承部的下表面与上述罩主体的上表面之间。

9.一种电感耦合等离子处理装置的罩固定装置，该电感耦合等离子处理装置包括：处理室，其具有构成顶板部分的窗构件，用于进行等离子处理；高频天线，其被配置在上述窗构件的上方，用于在上述处理室内形成感应电场；支承构件，用于支承上述窗构件；罩，用于覆盖上述窗构件的下表面，上述罩固定装置用于上述电感耦合等离子处理装置，用于固定上述罩，其特征在于，

上述电感耦合等离子处理装置的罩固定装置包括：权利要求1或8所述的罩固定器具；将上述罩固定器具的上述被固定部固定于上述支承构件的固定机构。

10.根据权利要求9所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定装置，其特征在于，

上述固定机构是提起上述被固定部的机构。

11.根据权利要求9所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定装置，其特征在于，

上述固定机构是对上述被固定部的上下方向的移动进行限制的机构。