[发明专利]曝光机台、阵列基板、图案化薄膜、光刻胶层及形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光机台、阵列基板、图案化薄膜、图案化光刻胶层，且涉及一种能曝出较小间距的曝光机台。

背景技术

随着液晶显示器的显示规格不断地朝向大尺寸发展，市场对于液晶显示器的性能要求是朝向高对比(High Contrast Ratio)、快速反应与广视角等特性，为了克服大尺寸液晶显示面板的视角问题，液晶显示面板的广视角技术也必须不停地进步与突破。其中，以多域垂直配向式(Multi-domain VerticalAlignment mode，MVA mode)的液晶显示面板为目前较为常见的广视角技术，如多域垂直配向式(Multi-domain Vertical Alignment，MVA)液晶显示面板、聚合物稳定配向(Polymer Stabilized Alignment，PSA)液晶显示面板等。

以聚合物稳定配向液晶显示面板为例，其像素电极包括多组条状图案，且各组条状图案之间以条状狭缝(slit)彼此分隔，这些条状图案例如是将像素电极划分为四个配向区域，使得液晶层内的液晶分子呈现多方向的倾倒，而达到广视角的需求。然而，以现有技术来看，条状图案的宽度(line width)与间隔(即狭缝的宽度)通常为5微米及3微米的组合，然而，在宽度/间隔为5微米/3微米的设计条件下，聚合物稳定配向液晶显示面板的液晶效率(liquidcrystal efficiency)仍有改善的空间。因此，为了进一步提升聚合物稳定配向液晶显示面板的液晶效率，必须从缩小条状图案以及狭缝的宽度着手。

一般来说，条状图案的间距(pitch)主要是由作为其掩模层的图案化光刻胶层决定，而图案化光刻胶层的间距则取决于光掩模的遮光图案的宽度及图案设计。此外，由于曝光机台的透镜组是由多个彼此平行排列的条状透镜所组成，因此，任二相邻条状透镜的衔接处会具有一重迭区域，这些重迭区域的光学特性会较差，而导致通过这些重迭区域的光线较弱。换言之，在相同的曝光条件下，会因为重迭区域的存在，导致对应到重迭区域的光刻胶材料层的曝光剂量不足，而曝出具有较大宽度及较小间隔的光刻胶图案。如此一来，以光刻胶图案为掩模所形成的条状图案虽具有相同的间距(即宽度与间隔的总和相同)，但会具有不同的宽度/间隔比例，导致聚合物稳定配向液晶显示面板的显示画面出现亮暗线的问题，即所谓的透镜色不均(Lens mura)。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种曝光机台，能曝出较小间距。

本发明另提供一种图案化薄膜的形成方法和图案化光刻胶层的形成方法，其采用上述曝光机台来进行曝光，以形成具有较小间距的图案。

本发明又提供一种主动元件阵列基板，其中分布于不同区域的图案具有不同的临界尺寸。

本发明再提供一种图案化薄膜，其中分布于不同区域的图案具有不同的宽度/间隔比例。

为实现上述目的，本发明提出一种曝光机台，适于对一薄膜上的一光刻胶层进行曝光，以于光刻胶层上形成多个条状曝光图案，而曝光机台包括一光源、一透镜组以及一光掩模。透镜组配置于光刻胶层与光源之间，透镜组包括多个彼此平行排列的条状透镜，其中任二相邻条状透镜的重迭区域定义为一透镜接合区域，而透镜接合区域以外的区域则定义为多个透镜区域。光掩模配置于光刻胶层与透镜组之间，其中光掩模具有多个遮光图案，遮光图案的外轮廓对应于条状曝光图案，而各遮光图案分别具有一条状开口，且条状开口的延伸方向实质上平行于遮光图案的延伸方向。

其中，各该遮光图案的宽度为L，任二相邻遮光图案之间的间隔为S，且宽度L与间隔S的总和为6微米。

其中，宽度L为4微米，间隔S为2微米。

其中，宽度L为3.5微米，间隔S为2.5微米。

其中，该光掩模具有多个第一曝光区域以及多个第二曝光区域，该第一曝光区域与该第二曝光区域交替排列，各该第一曝光区域分别对应于其中一透镜接合区域，且各该第二曝光区域分别对应于其中一透镜区域。

其中，位于该第一曝光区域内的遮光图案包括：多个第一遮光图案，各该第一遮光图案分别具有一第一条状开口；以及多个第二遮光图案，各该第二遮光图案分别具有一第二条状开口，其中各该第一条状开口的宽度为SB1，各该第二条状开口的宽度为SB2，且宽度SB1小于宽度SB2。

其中，在该第二曝光区域内，各该遮光图案的条状开口的宽度为SB，且宽度SB等于宽度SB1。

其中，宽度SB1为1.0微米，宽度SB2为1.1微米。

其中，该第二遮光图案随机分布于该第一曝光区域内。

其中，该第二遮光图案在该第一曝光区域内的分布密度由中央往两侧递减。