[发明专利]导电性高分子/掺杂剂分散体、导电性组合物及导电性被膜有效

专利信息
申请号: 201010144814.4 申请日: 2010-03-24
公开(公告)号: CN101899197A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: 平崎正和;水口真司;木村俊之;泽田浩 申请(专利权)人: 荒川化学工业株式会社
主分类号: C08L65/00 分类号: C08L65/00;C08L79/04;C08L79/02;C08L25/04;H01B1/12;C08F283/00;C08L51/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 导电性 高分子 掺杂 散体 组合
【权利要求书】:

1.一种导电性高分子/掺杂剂分散体(1),其将导电性高分子(A)、掺杂剂(B)及络合物形成剂(C)分散于有机溶剂中而成。

2.根据权利要求1所述的导电性高分子/掺杂剂分散体(1),其中,导电性高分子(A)为选自聚噻吩类、聚吡咯类和聚苯胺类中的至少一种化合物。

3.根据权利要求1或2所述的导电性高分子/掺杂剂分散体(1),其中,掺杂剂(B)为聚苯乙烯磺酸和/或其的盐。

4.根据权利要求1~3的任一项所述的导电性高分子/掺杂剂分散体(1),其中,络合物形成剂(C)在分子中具有至少一个选自磷酸基、取代磷酸基、羧基、氨基、羟基以及酚性羟基中的官能团。

5.根据权利要求1~4的任一项所述的导电性高分子/掺杂剂分散体(1),其中,还含有胺类化合物(D)。

6.根据权利要求5所述的导电性高分子/掺杂剂分散体(1),其中,胺类化合物(D)为在分子中具有聚氧化烯基结构或烷基结构的化合物。

7.根据权利要求1~6的任一项所述的导电性高分子/掺杂剂分散体(1),其中,有机溶剂为醇类。

8.根据权利要求1~7的任一项所述的导电性高分子/掺杂剂分散体(1),其中,含有过渡金属离子。

9.一种导电性组合物,其含有权利要求1~8的任一项所述的导电性高分子/掺杂剂分散体(1)及活性能量射线自由基聚合性化合物(2)。

10.一种导电性组合物,其含有权利要求1~8的任一项的导电性高分子/掺杂剂分散体(1)及活性能量线阳离子聚合性化合物(3)。

11.一种导电性被膜,其将权利要求9或10的导电性组合物涂覆在基体材料上,用活性能量线使其固化而成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于荒川化学工业株式会社,未经荒川化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010144814.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top