[发明专利]照明装置的制造装置及制造方法有效

专利信息
申请号: 201010145558.0 申请日: 2010-03-18
公开(公告)号: CN101841006A 公开(公告)日: 2010-09-22
发明(设计)人: 山崎舜平 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 何欣亭;徐予红
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 照明 装置 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及照明装置的制造方法,尤其涉及具备用于形成发光元件的成膜室的制造装置及使用该制造装置的制造方法。

背景技术

近年来,不断推进将由呈现EL(Electro Luminescence;电致发光)的化合物形成的膜用作发光层的元件的开发,并且提出了使用各种化合物的发光元件。这些发光元件引起称为电致发光(EL)的发光现象,该发光现象通过在用于注入空穴的电极(阳极)和用于注入电子的电极(阴极)之间设有的发光层中空穴及电子重结合而发生。

作为利用EL发光的发光元件的应用,主要被期待应用于显示器和照明。在考虑照明的应用时,现有照明器具的白炽灯泡为点光源,而荧光灯为线光源。针对于此,由于发光元件可以提供面发光,所以认为可制造具有例如片状照明等以往没有的形状的照明装置。此外,通过采用面光源,可以容易得到更近于自然光的照明。

这些发光元件由于其发光层(尤其由有机化合物构成的发光层)的对于氧或水分的耐性较低而容易劣化,所以被要求如下技术:以不暴露于大气的方式连续进行在形成阳极(或阴极)之后形成发光层等,并形成阴极(或阳极),进而进行密封(密封发光元件)的工序。在现有的制造装置中,使成膜室或密封室多室化来提供发光元件(例如专利文献1)。

在将利用EL发光的发光元件用于照明用途时,由于元件的尺寸等于作为照明发光的尺寸,所以与用于显示器的情况相比不需要高精密化而需要大面积。从而,为了利用EL发光的照明装置在市场上销售,需要批量生产化、低成本化,并需要制造装置进一步提高生产率。

[专利文献1]日本专利申请公开2001-102170号公报

发明内容

鉴于上述问题,本发明的一个方式的课题之一在于提供可以处理能力高地制造利用EL发光的照明装置的制造装置。

本发明的一个方式的制造装置之一包括:真空室;用于使真空室处于减压或高真空状态的排气系统;将衬底向真空室传送的传送室。此外,真空室包括:在从传送室传送的衬底上形成第一电极的成膜室;在第一电极上形成至少具有发光层的第一发光单元的成膜室;在第一发光单元上形成中间层的成膜室;在中间层上形成至少具有发光层的第二发光单元的成膜室;在第二发光单元上形成第二电极的成膜室;在设有第二电极的衬底上形成密封膜的成膜室;用于将衬底依次传送到各个成膜室的衬底传送部件。

此外,本发明的一个方式的制造装置之一包括:真空室;用于使真空室处于减压或高真空状态的排气系统;将衬底向真空室传送的传送室。另外,真空室包括:在从传送室传送的衬底上形成第一电极的成膜室;在第一电极上形成至少具有发光层的第一发光单元的成膜室;在第一发光单元上形成中间层的成膜室;在中间层上形成至少具有发光层的第二发光单元的成膜室;在第二发光单元上形成第二电极的成膜室;使用密封构件密封设有第二电极的衬底的密封室;用于将衬底依次传送到各个成膜室及密封室的衬底传送部件。

此外,本发明的一个方式的制造装置之一包括:真空室;用于使真空室处于减压或高真空状态的排气系统;将衬底向真空室传送的传送室;与真空室通过闸阀连接的密封室。另外,真空室包括:在从传送室传送的衬底上形成第一电极的成膜室;在第一电极上形成至少具有发光层的第一发光单元的成膜室;在第一发光单元上形成中间层的成膜室;在中间层上形成至少具有发光层的第二发光单元的成膜室;在第二发光单元上形成第二电极的成膜室;用于将衬底依次传送到各个成膜室的衬底传送部件,在密封室中使用密封构件密封从真空室传送的衬底。

此外,本发明的一个方式是一种照明装置的制造方法,包括如下步骤:将衬底传送到真空室内,在配置在真空室内并具有共同的真空度的多个成膜室中,在衬底上形成包括第一电极、第一发光单元、中间层、第二发光单元以及第二电极的发光元件,将包括发光元件的衬底向配置在真空室内并具有与多个成膜室共同的真空度的密封室传送,在密封室中使用密封构件密封从真空室传送的包括发光元件的衬底。

此外,本发明的一个方式是一种照明装置的制造方法,包括如下步骤:将衬底传送到真空室内,在配置在真空室内并具有共同的真空度的多个成膜室中,在衬底上形成包括第一电极、第一发光单元、中间层、第二发光单元以及第二电极的发光元件,将包括发光元件的衬底向与真空室通过闸阀连接的密封室传送,在密封室中使用密封构件密封从真空室传送的包括发光元件的衬底。

根据本发明的一个方式的制造装置,可以实现高速成膜或连续成膜处理。此外,根据本发明的一个方式的制造装置,可以提高材料的利用效率,还可以降低制造成本。

附图说明

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