[发明专利]光催化微反应器的制备方法

权利要求书

1.一种光催化微反应器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

第一步，在硅圆片(1)上刻蚀形成特定的硅微流槽图案，在硅微流槽两端局部放置 适量的高温释气剂(3)，

第二步，将上述硅圆片(1)与硼硅玻璃圆片(2)在空气中或者真空中阳极键合， 使硅圆片上的上述硅微流槽形成密封腔体(4)，并在空气中加热至760℃～900℃，保温 5～10min，高温释气剂因受热释放出气体产生正压力使得密封腔体(4)对应的熔融玻 璃呈圆管形，冷却形成玻璃微流道(5)，

第三步，在玻璃微流道(5)上制备入口和出口，去除高温释气剂的分解残留物，

第四步，将光催化剂涂覆于玻璃微流道的内管壁上，形成热成型玻璃光催化微反应 器，

所述光催化剂为纳米二氧化钛粉末，含锐钛矿和金红石的质量百分数分别为80％和 20％，所述光催化剂二氧化钛涂覆于玻璃微流道的内管壁上的方法为：将二氧化钛粉末 置于去离子水中，超声振荡搅拌形成悬浮液，其中悬浮液中二氧化钛的质量占悬浮液总 质量的0.05-20％，将悬浮液浸入玻璃微流道，再晾干，然后置于高温炉内加热到500℃～ 600℃烧结，从而使得纳米二氧化钛粉末涂覆于管壁上，重复上述过程3-8次，

所述高温释气剂为碳酸钙粉末。

2.根据权利要求1所述的光催化微反应器的制备方法，其特征在于，所述硼硅玻璃为 Pyrex7740玻璃。

3.根据权利要求1所述的光催化微反应器的制备方法，其特征在于，在第三步后除去衬 底硅，将得到的玻璃微流道(5)与另一玻璃圆片进行键合，得到全玻璃流道。

4.根据权利要求1所述的光催化微反应器的制备方法，其特征在于所述硅圆片上硅微流 槽图案的微加工工艺为湿法腐蚀工艺。

5.根据权利要求1或3所述的光催化微反应器的制备方法，其特征在于所述的硅圆片与硼 硅玻璃的键合工艺为阳极键合，工艺条件为：温度400℃，电压：600V。

6.根据权利要求1所述的光催化微反应器的制备方法，其特征在于第一步硅微流槽的深 度为50-100微米。