[发明专利]地板块、地板系统及铺设地板系统的方法

权利要求书

1.一种地板块，包括：

包括凸部(506)的凸部端面(500)；和

包括凹部(606)的凹部端面(600)；

其中，该凸部形成有上台阶(520，522)和下台阶(524，530)，在水平方向上该下台阶延伸超过该上台阶；该凹部形成有上凹槽(620，622)和下凹槽(624，630)，在水平方向上，该上凹槽延伸超过该下凹槽；在组装完成后的组装状态中(图6所示状态)，上台阶和下台阶分别容纳在上凹槽和下凹槽内。

2.根据权利要求1所述的地板块，其特征在于，所述上凹槽构造成允许在组装过程中容纳所述下台阶。

3.根据权利要求1或2所述的地板块，其特征在于，所述上台阶的上表面(520)与所述上凹槽的上表面(620)基本平行。

4.根据权利要求3所述的地板块，其特征在于，所述上台阶的上表面(520)和所述上凹槽的上表面(620)与水平面成一角度(θ₁₂)。

5.根据权利要求1或2所述的地板块，其特征在于，所述上台阶的侧表面(522)基本平行于所述上凹槽的侧表面(622)。

6.根据权利要求1或2所述的地板块，其特征在于，所述下台阶的上表面(524)与所述下凹槽的上表面(624)基本平行。

7.根据权利要求6所述的地板块，其特征在于，所述下台阶的上表面(524)和所述下凹槽的上表面(624)与水平面成一角度(θ₁₃)。

8.根据权利要求1或2所述的地板块，其特征在于，所述地板块构造成允许第一和第二地板在组装过程中可被定位在定位状态(图8和图9所示状态)，在该定位状态中，所述第一地板的上台阶处于所述第二地板的上凹槽和下凹槽之外，所述第一地板的下台阶处于所述第二地板的上凹槽中并接触该上凹槽；并且，

所述地板块构造成允许第一和第二地板在组装过程中从所述定位状态进入到所述组装状态。

9.根据权利要求8所述的地板块，其特征在于，在所述定位状态中，所述地板块构造成允许第一和第二地板可被定位在第一位置(图8所示位置)和第二位置(图9所示位置)，其中，在第一位置中，第一地板与所述第二地板成角度，在第二位置中，所述第一地板与所述第二地板基本平行；

其中，可以以所述第一地板的下台阶与所述第二地板的上凹槽的接触部为轴来旋转所述第一地板，使得所述第一和第二地板从第一位置进入到第二位置。

10.一种地板安装方法，用于安装如权利要求1～9所述的地板块，该地板安装方法包括：

将第一地板的下台阶定位于第二地板的上凹槽中并接触该上凹槽，其中，第一地板与所述第二地板成角度；

以所述第一地板的下台阶与所述第二地板的上凹槽的接触部为轴来旋转所述第一地板，使得所述第一地板和第二地板基本平行；

沿竖直方向施加力至第一地板，使得第一地板和第二地板进入到组装状态，在该组装状态中，所述第一地板的上台阶和下台阶分别容纳在第二地板的上凹槽和下凹槽内，且所述第一地板的凸部容纳在第二地板的凹部中。