[发明专利]曝光头、曝光头的控制方法、图像形成装置无效
申请号: | 201010156425.3 | 申请日: | 2010-03-30 |
公开(公告)号: | CN101859085A | 公开(公告)日: | 2010-10-13 |
发明(设计)人: | 田中博 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03G15/043 | 分类号: | G03G15/043;B41J2/447 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张宝荣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 控制 方法 图像 形成 装置 | ||
1.一种曝光头,其特征在于,具备:
发光元件;
将来自所述发光元件的光成像的成像光学系统;
相对于所述发光元件配置的多个参考元件;
控制所述发光元件的发光并且在潜像形成动作中熄灭所述参考元件的控制机构,
所述控制机构在不进行所述潜像形成动作的时刻根据发光的所述发光元件及所述多个参考元件的光量求解所述发光元件的劣化程度,并且,根据所述劣化程度控制所述潜像形成动作中的所述发光元件的光量。
2.根据权利要求1所述的曝光头,其特征在于,
具有多个所述发光元件,所述多个发光元件配置为第一方向上的距离比第二方向上的距离长,且配置成点对称,
所述多个参考元件配置在对应的所述多个发光元件的第一方向外侧,且相对于所述多个发光元件的点对称中心而配置成点对称。
3.根据权利要求1或2所述的曝光头,其特征在于,
所述发光元件及所述参考元件是有机EL元件。
4.一种曝光头的控制方法,其特征在于,包括:
第一工序,其中,使配置在曝光头的发光元件及多个参考元件发光,从而根据所述发光元件及所述多个参考元件的光量求解所述发光元件的劣化程度;
第二工序,其中,根据所述劣化程度控制所述发光元件的光量,同时通过配置在所述曝光头的成像光学系统将来自所述发光元件的光成像而执行在潜像担载体上形成潜像的潜像形成动作,并且,在所述潜像形成动作中使所述多个参考元件不发光。
5.一种图像形成装置,其特征在于,具备:
潜像担载体;
曝光头,其具有发光元件、将来自所述发光元件的光成像而将所述潜像担载体曝光的成像光学系统、相对于所述发光元件配置的多个参考元件;
控制机构,其在将潜像形成在所述潜像担载体上的潜像形成动作中控制所述发光元件的发光,并且,在所述潜像形成动作中熄灭所述多个参考元件,
所述控制机构在不进行所述潜像形成动作的时刻根据发光的所述发光元件及所述多个参考元件的光量求解所述发光元件的劣化程度,并且,根据所述劣化程度控制所述潜像形成动作中的所述发光元件的光量。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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