[发明专利]曝光头、曝光头的控制方法、图像形成装置

说明书

技术领域

本发明涉及通过成像光学系统将来自发光元件的光成像的曝光头、该曝光头的控制方法及使用了该曝光头的图像形成装置。

背景技术

作为这样的曝光头，在专利文献1中记载有相对于多个发光元件配置一个成像光学系统的曝光头。成像光学系统将来自对应的多个发光元件的光成像。然后，该成像光将被曝光面曝光。

其中，目前已知如下所述的情况：发光元件在反复进行发光的过程中劣化，从而导致发光元件的光量降低。并且，若发生这种的光量降低，则存在曝光头不能执行良好的曝光动作的可能性。与此对应，在专利文献2中提出了在不受发光元件劣化影响的情况下实现良好的曝光动作的光量控制技术。该光量控制技术在曝光头出厂前检查中使各发光元件依次发光，通过光量传感器检测来自各发光元件的光。进而，在出厂后，例如在曝光动作的间隔或接通电源时的时刻，进行与出厂前检查时同样的光量检测。然后，从出厂前后分别检测出的光量求解发光元件的劣化程度。具体而言，求出出厂前后的检测光量的比(专利文献2中的“补正系数”)。根据这样求出的比控制发光元件的光量，由此，在不受劣化影响的情况下使各发光元件的光量均匀化，从而实现良好的曝光动作。

专利文献1：日本特开2008-36937号公报

专利文献2：日本特开2004-82330号公报

然而，发光元件的光量也随温度变化而变动。因此，若在出厂前的光量检测时和出厂后的光量检测时发光元件的温度发生变化，则不仅在劣化的作用下，在温度变化的作用下发光元件的光量也会发生变化。其结果是，存在从出厂前后的检测光量求出的劣化程度受到温度变化的影响，而无法准确地求出劣化程度的情况。并且，在这种情况下，存在无法适当地抑制劣化所引起的光量变动，而不能执行良好的曝光动作的可能性。

发明内容

本发明鉴于上述课题而提出，其目的在于提供一种抑制劣化所引起的发光元件的光量变动，从而能够实现良好的曝光动作的技术。

[适用例1]本适用例的曝光头具备：发光元件；将来自所述发光元件的光成像的成像光学系统；相对于所述发光元件配置的多个参考元件；控制所述发光元件的发光并且在潜像形成动作中熄灭所述参考元件的控制机构，所述控制机构在不进行所述潜像形成动作的时刻根据发光的所述发光元件及所述多个参考元件的光量求解所述发光元件的劣化程度，并且，根据所述劣化程度控制所述潜像形成动作中的所述发光元件的光量。

[适用例2]所述适用例的曝光头具有多个所述发光元件，所述多个发光元件配置为第一方向上的距离比第二方向上的距离长，且配置成点对称，所述多个参考元件配置在对应的所述多个发光元件的第一方向外侧，且相对于所述多个发光元件的点对称中心而配置成点对称。由此，有利于使参考元件与多个发光元件为大致相同温度，从而能够更加高精度地求解发光元件的劣化程度。其结果是，曝光头能够执行良好的曝光动作。

[适用例3]所述适用例的曝光头的所述发光元件及所述参考元件是有机EL元件。由此，由于有机EL元件的光量根据劣化及温度变化而变动，因此，本适用例适合于高精度地求解发光元件的劣化程度从而实现良好的曝光动作。

[适用例4]本适用例的曝光头的控制方法的特征在于，包括：第一工序，其中，使配置在曝光头的发光元件及多个参考元件发光，从而根据所述发光元件及所述多个参考元件的光量求解所述发光元件的劣化程度；第二工序，其中，根据所述劣化程度控制所述发光元件的光量，同时通过配置在所述曝光头的成像光学系统将来自所述发光元件的光成像而执行在潜像担载体上形成潜像的潜像形成动作，并且，在所述潜像形成动作中使所述多个参考元件不发光。

[适用例5]本适用例的图像形成装置具备：潜像担载体；曝光头，其具有发光元件、将来自所述发光元件的光成像而将所述潜像担载体曝光的成像光学系统、相对于所述发光元件配置的多个参考元件；控制机构，其在将潜像形成在所述潜像担载体上的潜像形成动作中控制所述发光元件的发光，并且，在所述潜像形成动作中熄灭所述多个参考元件，所述控制机构在不进行所述潜像形成动作的时刻根据发光的所述发光元件及所述多个参考元件的光量求解所述发光元件的劣化程度，并且，根据所述劣化程度控制所述潜像形成动作中的所述发光元件的光量。