[发明专利]三阶非线性光学性碲基复合薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种三阶非线性光学性碲基复合薄膜，其特征在于：为SiO₂颗粒之间嵌有TeO₂和/或Te形成的Te/TeO₂-SiO₂复合薄膜结构。

2.一种权利要求1所述的三阶非线性光学性碲基复合薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

a.制备TeO₂-SiO₂透明复合溶胶；

d.将TeO₂-SiO₂透明复合溶胶以电化学的方式在工作电极上生成复合薄膜，通过控电位、控电流方法或调控循环伏安方法中的起止电位调整复合薄膜中Te/TeO₂的组成、结构及其和SiO₂的比例；

c.将附着有Te/TeO₂-SiO₂复合薄膜的工作电极在室温下自然晾干。

3.根据权利要求2所述的三阶非线性光学性碲基复合薄膜的制备方法，其特征在于：步骤a中，TeO₂-SiO₂透明复合溶胶由异丙醇碲、正硅酸乙酯、异丙醇、乙醇、水、盐酸和乙二醇混合配制而成。

4.根据权利要求3所述的三阶非线性光学性碲基复合薄膜的制备方法，其特征在于：步骤b中，工作电极为导电玻璃ITO，Pt为辅助电极，在-0.1V下进行恒电位电化学诱导，时间10-50s。

5.一种权利要求1所述的三阶非线性光学性碲基复合薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

a.制备TeO₂-SiO₂透明复合溶胶；

d.将透明复合溶胶干燥直至成为凝胶后磨成粉末，将粉末进行热处理，从室温升到50℃保温30min，以每升高50℃保温30min的方式升温至350-500℃，保温30-60min，得到Te/TeO₂-SiO₂粉体材料后自然冷却至室温；通过控制热处理温度来调整粉末中Te/TeO₂的组成、结构及其和SiO₂的比例；

c.将步骤b得到的粉体，采用真空镀膜的方法得到薄膜材料。

6.根据权利要求4所述的三阶非线性光学性碲基复合薄膜的制备方法，其特征在于：步骤a中，TeO₂-SiO₂透明复合溶胶由异丙醇碲、正硅酸乙酯、异丙醇、乙醇、水、盐酸和乙二醇混合配制而成。

7.根据权利要求5所述的三阶非线性光学性碲基复合薄膜的制备方法，其特征在于：步骤b将透明复合溶胶放在60℃干燥箱干燥直至成为凝胶后在150℃下保温2h后进行热处理。

8.根据权利要求6所述的三阶非线性光学性碲基复合薄膜的制备方法，其特征在于：步骤c中，以Te/TeO₂-SiO₂粉体压制成的坯做为靶材，利用射频磁控溅射，得到Te/TeO₂-SiO₂复合薄膜。