[发明专利]曝光机台及应用该曝光机台的曝光方法

权利要求书

1.一种曝光机台，包括：

多个光源；

多个灯罩，对应地设置于所述多个光源的一侧，每个所述灯罩分别包含至少两个面向各所述光源的椭圆弧反射面；以及

一承置平台，设置于所述光源的与所述灯罩相对的另一侧；

其中各所述灯罩的至少两个椭圆弧反射面面向该承置平台，各所述灯罩的至少两个椭圆弧反射面为并列配置，对应的各所述光源位于所述至少两个椭圆弧反射面的对称轴上。

2.如权利要求1所述的曝光机台，其中，每个所述灯罩的至少两个椭圆弧反射面包含微结构表面。

3.如权利要求1所述的曝光机台，其中，所述光源为紫外光灯管。

4.如权利要求1所述的曝光机台，还包括：

一第一滤光片，设置于所述光源及该承置平台之间，用以滤除一第一波段的光线。

5.如权利要求4所述的曝光机台，还包括：

一第二滤光片，设置于所述光源及该承置平台之间，用以滤除一第二波段的光线。

6.如权利要求1所述的曝光机台，还包括：

一图案化光罩，设置于所述光源及该承置平台之间。

7.如权利要求1所述的曝光机台，还包括：

一偏压装置，用以提供一偏压至一待曝光基板。

8.如权利要求1所述的曝光机台，还包括：

一冷却装置，设置于邻近所述光源处，用以带动空气流动通过所述光源以冷却所述光源。

9.如权利要求1所述的曝光机台，还包括：

一冷却装置，套接于所述光源，用以冷却所述光源。

10.一种曝光方法，其使用如权利要求1所述的曝光机台，该曝光方法包括如下步骤：

提供一待曝光基板于该承置平台上；以及

使用所述光源照射该待曝光基板，其中各所述灯罩的至少两个椭圆弧反射面朝向该待曝光基板反射光线，该待曝光基板包括一配向高分子材料层，当所述光源照射该待曝光基板时，该配向高分子材料层硬化产生一配向角度。

11.如权利要求10所述的曝光方法，还包括：

提供一偏压至该待曝光基板。

12.如权利要求10所述的曝光方法，其中，该配向高分子材料层包含一紫外光硬化聚合物，使用所述光源照射该待曝光基板的步骤中提供一紫外光线。