[发明专利]曝光机台及应用该曝光机台的曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光机台及应用该曝光机台的曝光方法，且特别涉及一种具有多个光源的曝光机台及应用该曝光机台的曝光方法。

背景技术

在平面显示器，如液晶显示器或有机电致发光显示器的制造过程中，曝光工序是不可缺少的重要步骤，其利用光照及蚀刻的方式来图案化材料层，以形成各种组件。例如常见的五道光罩工序，是重复进行沉积材料层、曝光材料层及蚀刻材料层的操作，以堆栈形成液晶显示器中的薄膜晶体管。事实上，不仅是在平面显示器的制造工序中，在其它半导体产品的生产线中曝光工序亦扮演着相当重要的角色。例如在内存、芯片上系统的生产线中，需利用曝光的方式将光罩上的布线转录至基材上。

近年来由于电子产品朝向轻薄化以及多功能化发展，产品内部的组件集成度大幅增加。因此各内部组件必须更进一步微型化，以符合产品的需求。随着组件的微型化，曝光工序的质量更成为影响产品合格率的关键因素之一。目前应用于曝光工序的曝光机台中，是利用灯罩来反射多个光源所发出的光线。灯罩上用来反射光线的反射面一般较常见为抛物线形状的设计，虽然可以提供良好的照度，却容易使照射到基材或基板的光线出现亮暗不均的暗纹。基材或基板受到具有暗纹的光线照射，会因曝光不均匀影响到后续的蚀刻的质量，进而危害到制造的合格率。

为了改善暗纹的现象，曝光机台中亦可见到平面式的反射面。然而平面式的反射面会导致照度降低，同时仍旧无法有效解决光线均匀度不佳、产生暗纹的问题。

因此，如何解决基材或基板曝光均匀度不佳导致合格率降低的问题，为目前在曝光工序中亟需解决的一个问题。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种曝光机台及一种应用该曝光机台的曝光方法，用以解决光线暗纹导致曝光质量不良的问题。

本发明的一个方面提出一种曝光机台，包括多个光源、多个灯罩以及一承置平台。灯罩对应地设置于光源的一侧，且各灯罩包含至少两个面向各光源的椭圆弧反射面。承置平台设置于光源的与灯罩相对的另一侧。各灯罩的至少两个椭圆弧反射面面向承置平台。

依据本发明一实施例，各灯罩的至少两个椭圆弧反射面为并列配置，且对应的各光源位于至少两个椭圆弧反射面的对称轴上。

依据本发明一实施例，各灯罩的至少两个椭圆弧反射面包含微结构表面。

依据本发明一实施例，这些光源为紫外光灯管。

依据本发明一实施例，曝光机台还包括一第一滤光片，设置于光源及承置平台之间，用以滤除一第一波段的光线。

依据本发明一实施例，曝光机台还包括一第二滤光片，设置于光源及承置平台之间，用以滤除一第二波段的光线。

依据本发明一实施例，曝光机台还包括一图案化光罩，设置于光源及承置平台之间。

依据本发明一实施例，曝光机台还包括一偏压装置，用以提供一偏压至一待曝光基板。

依据本发明一实施例，曝光机台还包括一冷却装置，设置于邻近光源处，用以带动空气流动通过光源以冷却光源。

依据本发明一实施例，曝光机台还包括一冷却装置，套接于光源，用以供一冷却液体流动通过光源以冷却光源。

本发明的另一方面提出一种曝光方法，该曝光方法使用前述的曝光机台。该曝光方法包括下述步骤；提供一待曝光基板于承置平台上；以及使用光源照射待曝光基板，各灯罩的至少两个椭圆弧反射面朝向待曝光基板反射光线。待曝光基板包括一配向高分子材料层，当光源照射待曝光基板时，配向高分子材料层硬化产生一配向角度。

依据本发明一实施例，曝光方法还包括提供一偏压至待曝光基板的步骤。

依据本发明一实施例，配向高分子材料层包含一紫外光硬化聚合物。使用光源照射待曝光基板的步骤中，提供一紫外光线。

上述依照本发明实施例的曝光机台及应用该曝光机台的曝光方法，利用至少两个椭圆弧反射面来反射光线，可以提高光线的均匀度，提升曝光质量。

附图说明

为使本发明的上述和其它目的、特征、优点与实施例能更加明显易懂，现结合所附的附图说明如下：

图1A绘示依照本发明一实施例的一种曝光机台的前视图。

图1B绘示曝光机台的侧视图。

图2绘示光源、灯罩及承置平台的示意图。

图3绘示两个椭圆弧反射面的相交处为圆角时的示意图。

图4绘示两个椭圆弧反射面的相交处为平面时的示意图。

图5绘示两个灯罩的相交处为平面时的示意图。

图6绘示依照本发明另一实施例的冷却装置的立体图。

图7绘示依照本发明一实施例的一种曝光方法的流程图。

其中，附图标记说明如下：