[发明专利]光栅式位相差液晶膜制造工艺有效
| 申请号： | 201010169493.3 | 申请日： | 2010-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN101900850A | 公开（公告）日： | 2010-12-01 |
| 发明（设计）人： | 刘再权;刘晓林;谢佳;牛磊;陈瑞改;孙晓平 | 申请（专利权）人： | 天马微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/13;G02B27/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光栅 相差 液晶 制造 工艺 | ||
1.一种光栅式位相差液晶膜制造工艺，用来制造在立体显示装置中设置显示器表面的光栅式位相差液晶膜，其特征在于，该光栅式位相差液晶膜制造工艺包括以下步骤：
步骤一、提供上下玻璃基板，在该上下玻璃基板表面光刻形成相互间隔的透明导电层，并在该玻璃基板和该透明导电层上印刷脱膜胶；
步骤二、在脱膜胶上印刷定向膜，并对该定向膜进行摩擦；
步骤三、将该上下玻璃基板贴合形成液晶盒，切割该液晶盒并在其中灌注液晶；
步骤四、对液晶进行紫外固化，然后对该脱膜胶进行脱膜，得到该光栅式位相差液晶膜。
2.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺，其特征在于：该脱膜胶是热熔胶，印刷该印刷热熔胶时，采用滚筒印刷涂敷工艺，且该热熔胶的涂敷厚度小于0.2mm。
3.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺，其特征在于：在步骤二中，上下玻璃基板为正交方向摩擦。
4.根据权利要求3所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺，其特征在于：其中一玻璃基板的摩擦方向为-45度，另一玻璃基板的摩擦方向为+45度。
5.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺，其特征在于：步骤四中，对该脱膜胶进行脱膜时，其温度范围在液晶清亮点与液晶分解温度之间。
6.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺，其特征在于：在固化液晶时，固化方法为紫外固化，且固化温度与灌注液晶时的温度相同。
7.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺，其特征在于：在灌注液晶时的温度低于脱膜胶的熔化温度。
8.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺，其特征在于：该定向膜的材料为聚酰亚胺。
9.根据权利要求1所述的光栅式位相差液晶膜制造工艺，其特征在于：该透明导电层的材料为氧化铟锡或者氧化铟锌。
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