[发明专利]立方相氧锌镁单晶薄膜的生长制备方法无效
申请号: | 201010172836.1 | 申请日: | 2010-05-17 |
公开(公告)号: | CN101838845A | 公开(公告)日: | 2010-09-22 |
发明(设计)人: | 王立昆;张吉英;郑剑;单崇新;申德振;姚斌;赵东旭;李炳辉;张振中 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | C30B25/16 | 分类号: | C30B25/16;C30B29/22 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 南小平 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 立方 相氧锌镁单晶 薄膜 生长 制备 方法 | ||
1.立方相氧锌镁单晶薄膜的生长制备方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:
1)清洗衬底:(a)、蓝宝石衬底的清洗,首先用三氯乙烯、丙酮、乙醇、去离子水超声清洗15分钟,去掉表面的油污,然后在硫酸∶磷酸=3∶1的混合液中加热煮沸15分钟,得到清洁的表面,最后用去离子水冲净并用高纯氮气吹干;(b)、氧化镁衬底的清洗,首先用三氯乙烯、丙酮、乙醇、去离子水超声清洗15分钟,去掉表面的油污,然后用高纯氮气吹干;
2)启动循环水、氮气纯化器、高频加热炉、半导体冷阱和恒温水浴槽的电源;
3)采用二甲基二茂镁作为镁源,利用恒温水浴槽将源温控制在40℃~50℃范围内;利用二乙基锌作为锌源,半导体冷阱源温控制为-5℃;
4)采用经氮气纯化器纯化后的高纯氮气作为载气,控制管路压力为2×105Pa;通过流量计控制Ⅱ族、Ⅵ族载气的摩尔流量分别为0.07mol/min、0.05mol/min,生长室压力控制由一台压力控制器和机械泵来完成,生长室压力在2×104Pa;
5)启动高频炉调节高压输出,控制生长温度在280℃~450℃;
6)打开镁源、锌源的源瓶进出口阀门,调节镁源的流量计,使其摩尔流量为18~40μmol/min;调节锌源的流量计,使其摩尔流量为0.45~3μmol/min;以高纯氧气为氧源,压力为3×105Pa,调节氧气流量计,使其摩尔流量控制在0.07mol/min;
7)打开镁源、锌源以及氧气R阀,开始生长,生长时间控制在150分钟;
8)生长结束后,关闭镁源、锌源的源瓶进出口阀门,关闭氧气阀门,待衬底温度降到室温,取出样品,则完成立方相氧锌镁单晶薄膜的生长制备。
2.根据权利要求1所述的立方相氧锌镁单晶薄膜的生长制备方法,其特征在于,所述单晶薄膜的厚度在700-800nm之间。
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