[发明专利]光学元件、光学元件制作用原盘的制造方法以及光电转换装置无效

专利信息
申请号: 201010180243.X 申请日: 2007-08-21
公开(公告)号: CN101825730A 公开(公告)日: 2010-09-08
发明(设计)人: 远藤惣铭;林部和弥;永井透;秀田育弘;白鹭俊彦;西村公孝;铃木忠男 申请(专利权)人: 索尼株式会社;索尼碟片数位解决方案股份有限公司
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G03F7/20
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 元件 制作 用原盘 制造 方法 以及 光电 转换 装置
【权利要求书】:

1.一种安装有光学元件的显示装置,所述光学元件在基体表面上以可 视光的波长以下的微小间隔配置有多个包括凸部或凹部的构造体, 其特征在于:

所述各构造体被配置为在所述基体表面呈多列圆弧状轨迹,且 形成准六边形格子图案,

其中,所述构造体是在所述圆弧状轨迹的圆周方向上具有长轴 方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。

2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于:

相同轨迹内的所述构造体的配置间隔P1长于邻接的两个轨迹 间的所述构造体的配置间隔P2。

3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于:

当将相同轨迹内的所述构造体的配置间隔设定为P1,并将邻接 的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔设定为P2时,P1/P2为1.00< P1/P2≤1.32。

4.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于:

所述各构造体为如下的椭圆锥或椭圆锥台形状:在所述圆弧状 轨迹的圆周方向上具有长轴方向,且中央部的倾斜比尖端部以及底 部的倾斜更为陡峭。

5.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于:

所述圆弧状轨迹的圆周方向上的所述构造体的高度或深度小 于所述圆弧状轨迹的直径方向上的所述构造体的高度或深度。

6.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于:

所述构造体的纵横尺寸比为0.81~1.46。

7.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于:

所述构造体的纵横尺寸比为0.94~1.28。

8.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于:

所述构造体的纵横尺寸比为0.94~1.46。

9.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于:

所述构造体的纵横尺寸比为0.81~1.28。

10.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于:

相同轨迹内的所述构造体的配置间隔P1为300nm~350nm,邻 接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔P2为265nm~300nm。

11.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于:

所述基体的光射入面以及光射出面两者上都设置有所述多个 构造体。

12.一种光学元件制作用原盘金属模,所述光学元件在基体表面上以可 视光的波长以下的微小间隔配置有多个包括凸部或凹部的构造体, 其特征在于:

所述各构造体被配置为在所述基体表面呈多列圆弧状轨迹,且 形成准六边形格子图案,

其中,所述构造体是在所述圆弧状轨迹的圆周方向上具有长轴 方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。

13.根据权利要求12所述的光学元件制作用原盘金属模,其特征在于:

相同轨迹内的所述构造体的配置间隔P1长于邻接的两个轨迹 间的所述构造体的配置间隔P2。

14.根据权利要求12所述的光学元件制作用原盘金属模,其特征在于:

当将相同轨迹内的所述构造体的配置间隔设定为P1,并将邻接 的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔设定为P2时,P1/P2为1.00< P1/P2≤1.32。

15.根据权利要求12所述的光学元件制作用原盘金属模,其特征在于:

所述各构造体为如下的椭圆锥或椭圆锥台形状:在所述圆弧状 轨迹的圆周方向上具有长轴方向,且中央部的倾斜比尖端部以及底 部的倾斜更为陡峭。

16.根据权利要求12所述的光学元件制作用原盘金属模,其特征在于:

所述圆弧状轨迹的圆周方向上的所述构造体的高度或深度小 于所述圆弧状轨迹的直径方向上的所述构造体的高度或深度。

17.根据权利要求12所述的光学元件制作用原盘金属模,其特征在于:

所述构造体的纵横尺寸比为0.81~1.46。

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