[发明专利]化学汽相沉积设备

权利要求书

1.一种化学汽相沉积设备，包括：

具有用于支撑基板的基板支撑件的腔室；

具有多个第一源供应孔的腔室盖，所述腔室盖安装在所述腔室上方；

用于提供处理源至所述多个第一源供应孔的多个源供应管；

具有多个第二源供应孔的喷射管支撑件，所述多个第二源供应孔对应于所述多个第一源供应孔，所述喷射管支撑件可拆卸地安装在所述腔室盖中；以及

具有多个第三源供应孔和多个源喷射孔的多个源喷射管，所述多个源喷射管由所述喷射管支撑件支撑，其中所述多个第三源供应孔由所述多个第二源供应孔提供所述处理源，所述多个源喷射孔喷射所述处理源到所述基板上。

2.根据权利要求1所述的化学汽相沉积设备，其中所述腔室盖包括：

底座，在所述底座中形成所述多个第一源供应孔；

支撑件安装部分，在所述支撑件安装部分中可拆卸地安装所述喷射管支撑件，所述支撑件安装部分形成在所述底座的背面；以及

冷却组件安装部分，在所述冷却组件安装部分中安装用于冷却所述喷射管支撑件的温度的冷却组件，所述冷却组件安装部分形成在所述底座中。

3.一种化学汽相沉积设备，包括：

具有用于支撑基板的基板支撑件的腔室；

安装在所述腔室上方的腔室盖；

用于将外部提供的处理源喷射到所述基板上的源喷射组件，所述源喷射组件可拆卸地安装在所述腔室盖中；以及

用于冷却所述源喷射组件的温度的冷却组件，所述冷却组件安装在所述腔室盖内部。

4.根据权利要求3所述的化学汽相沉积设备，其中所述腔室盖包括：

底座；

用于提供所述处理源至所述源喷射组件的多个第一源供应孔，所述多个第一源供应孔是通过贯穿所述底座以固定的间隔来形成的；

支撑件安装部分，在所述支撑件安装部分中可拆卸地安装所述源喷射组件，所述支撑件安装部分形成在所述底座的背面；以及

冷却组件安装部分，在所述冷却组件安装部分中安装所述冷却组件，所述冷却组件安装部分形成在所述底座中。

5.根据权利要求4所述的化学汽相沉积设备，其中所述源喷射组件包括：

以固定间隔设置的多个源喷射管；

用于支撑所述多个源喷射管的喷射管支撑件，所述喷射管支撑件可拆卸地安装在所述底座中；

形成在所述喷射管支撑件中的多个第二源供应孔，所述多个第二源供应孔对应于所述多个第一源供应孔；

形成在各个源喷射管中的多个第三源供应孔，所述多个第三源供应孔对应于所述多个第二源供应孔；以及

用于喷射所述处理源到所述基板上的多个源喷射孔，所述多个源喷射孔以固定间隔形成在各个源喷射管中。

6.根据权利要求1或5所述的化学汽相沉积设备，还包括具有多个开口的护罩，所述多个开口对应于所述多个源喷射管，所述护罩可拆卸地安装在所述腔室盖的背面。

7.根据权利要求6所述的化学汽相沉积设备，其中所述开口以对应于所述多个源喷射管的每个的纵向方向的条状形成，或者以对应于所述多个源喷射孔的每个的孔状形成。

8.根据权利要求1或5所述的化学汽相沉积设备，还包括用于密封所述多个第二源供应孔的周围的密封件。

9.根据权利要求1或5所述的化学汽相沉积设备，其中所述喷射管支撑件支撑以“N”个为一组提供的多个源喷射管，即支撑所述源喷射管中的包含“N”个的每一组。

10.根据权利要求2或4所述的化学汽相沉积设备，其中所述支撑件安装部分包括：

在所述底座的背面中的彼此平行的第一插槽，在所述第一插槽中可拆卸地安装所述喷射管支撑件；以及

以固定间隔设置在所述底座的背面中的多个第二插槽，所述多个第二插槽以直角与所述第一插槽交叉，其中所述多个源喷射管分别安装在所述多个第二插槽中。

11.根据权利要求2或4所述的化学汽相沉积设备，其中所述冷却组件安装部分是通过对所述底座的上表面进行刻槽而以多弯曲的形状来形成的。

12.根据权利要求2或4所述的化学汽相沉积设备，还包括用于将安装有所述冷却组件的所述冷却组件安装部分覆盖的盖子。