[发明专利]一种硅提纯的方法无效

专利信息
申请号: 201010190230.0 申请日: 2010-05-31
公开(公告)号: CN102260909A 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 沈益顺;司雷;彭少波;吴志能 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B28/06;C22B3/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518118 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 提纯 方法
【权利要求书】:

1.一种硅提纯的方法,其特征在于,步骤包括将原料硅与铝及金属添加剂混合得混合物,混合物加热熔融,于1350~1750℃保持0.5~20小时,后降温到500~650℃析出硅,得提纯硅;所述原料硅与铝的质量比为1∶0.4~1∶5,所述金属添加剂为钛和/或钒。

2.根据权利要求1所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述降温析出硅包括在结晶器上析出硅。

3.根据权利要求1所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述金属添加剂与原料硅与铝中的杂质硼的质量比为100∶1~5∶1。

4.根据权利要求3所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述金属添加剂与原料硅与铝中的杂质硼的质量比为40∶1~15∶1。

5.根据权利要求1所述的硅提纯的方法,其特征在于,以原料硅的总量为基准,所述原料硅中的杂质硼的质量含量为5-100PPM。

6.根据权利要求1所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述金属添加剂的纯度大于99.0%。

7.根据权利要求1所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述加热的升温速率为5~40℃/min。

8.根据权利要求1所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述加热包括多段升温,包括以20~40℃/min的速率升温至700℃,再以5~20℃/min的速率升温至1400℃,后以15~35℃/min的速率升温至1750℃。

9.根据权利要求1所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述原料硅的纯度大于99.0%,所述铝的纯度大于99.0%。

10.根据权利要求1所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述步骤还包括将提纯硅破碎、研磨及湿法提纯,所述湿法提纯包括将研磨后的提纯硅于酸性溶液中浸泡2~6小时,后过滤干燥;浸泡的温度为30~120℃。

11.根据权利要求10所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述研磨后的提纯硅的粒度为100-200目;所述酸性溶液为王水和硫酸的混合液。

12.根据权利要求1所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述步骤还包括真空熔炼和定向凝固。

13.根据权利要求12所述的硅提纯的方法,其特征在于,所述定向凝固的起始温度为1500~1700℃,自下而上的速度为0.10~2.0mm/min;

所述真空熔炼的真空度为1×10-1Pa~1×10-5Pa,温度为1350~1700℃,时间为2~10小时。

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