[发明专利]新型复合型透明导电玻璃及其制备方法无效
申请号: | 201010191450.5 | 申请日: | 2010-06-03 |
公开(公告)号: | CN101863626A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 张庆丰;罗培青;章昌台;高石崇;郑加镇 | 申请(专利权)人: | 江西赛维BEST太阳能高科技有限公司 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 新型 复合型 透明 导电 玻璃 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及透明导电玻璃领域,特别涉及新型复合型透明导电玻璃的制造技术领域。
背景技术
透明导电玻璃由于具备良好的导电性和透光性,目前广泛用做薄膜太阳电池前电极,如图1所示.掺氟氧化锡(SnO2:F简称FTO)透明导电玻璃除具备良好的透光性和导电性之外,由于具备相对成熟的产业化技术,良好的热稳定性以及较高的绒面度,因而成为目前薄膜太阳电池前电极应用的主要产品。
以玻璃为衬底的硅基薄膜电池结构,为了提高电池效率,如何提高入射光到达有源层的光通量是成为一个主要研究课题。目前的现有技术是通过提高透明导电玻璃(TCO)的绒面度来达到增加入射光通量的目的;但目前产业化广范使用的TCO玻璃结构(浮法玻璃/SnO2/SiO2/SnO2:F)存在如下缺点;
(1)TCO折射率(n~1.9)与硅薄膜折射率(n~3.5)之间的不匹配所造成光学损失的问题。
当一束光由一种介质传播进入另一种介质时,会在界面处发生反射。假定介质1的折射率为n1,介质2的折射率为n2,则光在界面处的反射率估算公式为:
R=(n1-n2)2/(n1+n2)2
以光从空气(折射率为1)射入玻璃(折射率为1.5)为例,计算得到R1=4%;玻璃/TCO膜(折射率为2.0)之间的反射率为R2=2%,TCO/Si薄膜(折射率为3.5)之间的反射率为R3=7.44%。
总的光反射为ρ=R1+96%×R2+(96%-96%×R2)×R3=13%
(2)传统的TCO膜层材料为掺氟氧化锡(简称FTO),由于SnO2中的Sn4+在H+氛围下不稳定,易被还原致使FTO膜层变黑,降低TCO的物理性能(透光性能变差,面电阻增大)。如图二,图三所示。
发明内容
本发明的目的,是针对现有技术存在的缺陷,提供一种能降低膜层对入射光的反射,抑制FTO膜层在CVD等离子下的氢离子还原作用,以提高电池组件效率的复合型透明导电玻璃及其制备方法。
本发明所采取的技术方案是:在原有的掺氟氧化锡膜层上先沉积一层(比如20nm)氧化钛(TiO2),目的是为了降低由于折射率不匹配所造成的界面反射损失。在沉积过TiO2之后,再沉积一层(如10nm)掺铝氧化锌(AZO),此种做法就是利用氧化锌在氢等离子下强的抗还原能力,有效避免氢离子对氧化物中金属离子的还原,同时保证了透明导电玻璃良好的物理性能。
在沉积一层20nm的TiO2之后,透明导电玻璃对光的总反射率计算如下:
以光从空气(折射率为1)射入玻璃(折射率为1.5)为例,计算得到R=4%;玻璃/TCO膜(折射率为2.0)之间的反射率为2%,TCO/TiO2薄膜(折射率为2.5)之间的反射率为1.2%,TiO2/Si薄膜之间的反射率为2.8%。总的反射率ρ为:
ρ=4%+96%×2%+(96%-96%×2%)×1.2%+[(96%-96%×2%)-(96%-96%×2)×1.2%]×2.8%=8%
由上面计算可以看出,在TCO之上沉积一层TiO2之后,总的反射率由原来的13%降为8%。
本发明的制备方法是:采用磁控溅射(PVD)的方式,所需的工艺气体为高纯氩气(Ar)和高纯氧气(O2)。控溅射所需的本底真空为<10-4Pa。工艺压强为0.1~0.5Pa。沉积TiO2膜层所用的靶材为金属Ti或者TiO2陶瓷靶。沉积AZO膜层所用的靶材为AZO(Al2O3wt%0%~3%)陶瓷靶。其工艺原理是Ar气在高电压的作用下,形成气体等离子体(辉光放电),其中的阳离子(Ar+)在电场力作用下高速向靶材冲击,阳离子和靶材进行能量交换,使靶材原子获得足够的能量从靶材表面逸出,沉积到衬底上形成工艺所需的薄膜材料。工艺气体氧气主要是在工艺反应过程中起到补氧的目的,保证TiO2与AZO具备良好的物理性能。
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