[发明专利]阵列基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器

权利要求书

1.一种阵列基板，包括衬底基板，以及以拼接方式形成在所述衬底基板上的像素电极、信号线和绝缘层，其特征在于，在拼接区域，至少一条信号线为分段式结构，所述分段式结构的信号线上各个折线段由两次曝光工艺制成，且相邻的两个折线段由不同的曝光工艺制成。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述信号线为栅线或数据线。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述各个折线段的长度小于相邻的像素电极上、与所述折线段平行的侧边的长度。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述各个折线段的长度和相邻的像素电极上、与所述折线段平行的侧边的长度的比例至少为1/2。

5.一种彩膜基板，包括衬底基板，以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵和像素树脂，其特征在于，在拼接区域，所述黑矩阵为分段式结构，所述分段式结构的黑矩阵的各个折线段由两次曝光工艺制成，且相邻的两个折线段由不同的曝光工艺制成。

6.一种液晶面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶层，其特征在于，所述阵列基板采用权利要求1～4任一所述的阵列基板和/或所述彩膜基板采用权利要求5所述的彩膜基板。

7.一种液晶显示器，包括外框架、液晶面板、其特征在于，所述液晶面板采用权利要求6所述的液晶面板。

8.一种阵列基板的制造方法，包括以拼接方式在所述衬底基板上形成像素电极、信号线和绝缘层的步骤，其特征在于，在拼接区域形成信号线的步骤包括：

在衬底基板上沉积信号线层材料；

通过对第一次曝光工艺进行控制以形成两个以上间隔设置的第一信号线折线段；

通过对第二次曝光工艺进行控制以形成两个以上间隔设置的第二信号线折线段，所述第一信号线折线段和第二信号线折线段构成具有分段式结构的信号线。

9.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括在衬底基板上形成在形成黑矩阵、像素树脂的步骤，其特征在于，所述在彩膜基板上形成黑矩阵的步骤包括：

在衬底基板上沉积黑矩阵材料；

通过对第一次曝光工艺进行控制以形成两个以上间隔设置的第一黑矩阵折线段；

通过对第二次曝光工艺进行控制以形成两个以上间隔设置的第二黑矩阵折线段，所述第一黑矩阵折线段和第二黑矩阵折线段构成具有分段式结构的黑矩阵。