[发明专利]用于成像装置的部件、成像装置以及用于成像装置的单元有效
申请号: | 201010211597.6 | 申请日: | 2010-06-18 |
公开(公告)号: | CN101943878A | 公开(公告)日: | 2011-01-12 |
发明(设计)人: | 大津茂实;林圣悟 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G15/20 | 分类号: | G03G15/20;G03G15/16;C08L79/08 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 丁业平;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 成像 装置 部件 以及 单元 | ||
1.一种用于成像装置的部件,其包括:
表面层,所述表面层的至少外表面含有氟化聚酰亚胺树脂,其中在所述氟化聚酰亚胺树脂的主链中存在醚基团。
2.根据权利要求1所述的用于成像装置的部件,
其中所述氟化聚酰亚胺树脂为由氟化聚酰胺酸制得的树脂,并且
所述氟化聚酰胺酸是使用至少部分氟化的酸酐以及至少部分氟化的二胺而合成得到的。
3.根据权利要求2所述的用于成像装置的部件,
其中所述至少部分氟化的酸酐以及所述至少部分氟化的二胺具有氟基团(-F)和全氟烷基(-CnF2n+1)两者中的至少一者,其中n为大于或等于1的整数。
4.根据权利要求2或3所述的用于成像装置的部件,
其中所述至少部分氟化的酸酐选自由下式(1)至(3)所示的化合物所组成的组,并且
所述至少部分氟化的二胺选自由下式(4)所示的二胺所组成的组:
其中Rf为氟化芳香族化合物。
5.根据权利要求4所述的用于成像装置的部件,
其中所述至少部分氟化的二胺选自由下式(5)至(15)所示的二胺:
6.根据权利要求1所述的用于成像装置的部件,
其中所述表面层由多个层构成。
7.根据权利要求1所述的用于成像装置的部件,
其中所述表面层由单层构成,并且
在由所述表面层的内侧至外侧的方向上,所述氟化聚酰亚胺树脂的含量逐级增加或梯度增加。
8.根据权利要求1所述的用于成像装置的部件,还包括:
堆叠在所述表面层的背表面上或上方的基层。
9.根据权利要求8所述的用于成像装置的部件,
其中所述基层的至少内表面由聚酰亚胺或聚酰胺构成。
10.根据权利要求8或9所述的用于成像装置的部件,还包括:
作为中间层的位于所述表面层和所述基层之间的弹性层。
11.根据权利要求1所述的用于成像装置的部件,其呈环状带的形式。
12.根据权利要求1所述的用于成像装置的部件,其呈辊状的形式。
13.根据权利要求1所述的用于成像装置的部件,
其中所述表面层的表面电阻率为约104Ω/平方单位至1012Ω/平方单位。
14.根据权利要求1所述的用于成像装置的部件,
其中所述表面层的表面电阻率为约104Ω/平方单位至106Ω/平方单位。
15.根据权利要求1所述的用于成像装置的部件,
其中所述表面层的表面电阻率为约108Ω/平方单位至1012Ω/平方单位。
16.根据权利要求11所述的用于成像装置的部件,
其中,在所述表面层中,最外层的外周表面的表面粗糙度Ra小于最内层的内周表面的表面粗糙度Ra。
17.根据权利要求12所述的用于成像装置的部件,
其中所述表面层的膜厚度为约0.5μm至20μm。
18.一种成像装置,其使用根据权利要求1所述的用于成像装置的部件。
19.一种用于成像装置的单元,其使用根据权利要求1所述的用于成像装置的部件。
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