[发明专利]非易失性半导体光折变存储器结构无效

专利信息
申请号: 201010211932.2 申请日: 2010-06-29
公开(公告)号: CN101882623A 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: 宋俊峰;卢国强 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L29/792;H01L29/51
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 王恩远
地址: 130012 吉林省长*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 非易失性 半导体 折变 存储器 结构
【权利要求书】:

1.一种非易失性半导体光折变存储器结构,结构由光波导部分(100)和浮栅部分(200)构成,其特征在于:所述的光波导部分(100),由半导体光波导(1)、在半导体光波导(1)上方的上绝缘体介质(4)和在半导体光波导(1)下方的下绝缘体介质(7)组成;所述的浮栅部分(200),由制作在上绝缘体介质(4)内的导电材料的浮栅(2)、导电材料的控制栅(3)、导电介质(5)和成对的电极(6)组成;其中浮栅(2)的位置在控制栅(3)和导电介质(5)中间,相互之间由上绝缘体介质(4)隔离;一个电极(6)与控制栅(3)接触,另一个电极(6)与导电介质(5)接触;浮栅(2)与半导体光波导(1)相接触。

2.如权利要求1所述的非易失性半导体光折变存储器结构,其特征在于,所述的半导体光波导(1),是条型光波导、脊型光波导或倒脊型光波导;半导体光波导(1)的材料,是Si、AlxGa1-xAs、InxGa1-xAsyP1-y中的一种。

3.如权利要求1或2所述的非易失性半导体光折变存储器结构,其特征在于,所述的导电材料和导电介质(5),是N型半导体、P型半导体或金属材料中的一种;所述的上绝缘体介质(4)和下绝缘体介质(7),是SiO2、SiC、高阻半导体或聚合物绝缘材料中的一种;所述的电极(6),是Al、Cu、Au、Ag材料中的一种。

4.如权利要求1或2所述的非易失性半导体光折变存储器结构,其特征在于,所述的浮栅部分(200)有两个,其中的两个浮栅(2)与半导体光波导(1)相接触;两个导电介质(5)分别制作在各自的浮栅部分(200)内或是相互连通的。

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