[发明专利]一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉装置及其方法有效
| 申请号： | 201010217016.X | 申请日： | 2010-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN101863682A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 黄建平;谢悦增;满丽珠;黄俊生;张德安 | 申请（专利权）人： | 黄建平 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 | 代理人： | 陈安平;满群 |
| 地址： | 523121 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 陶瓷 砖坯 装置 及其 方法 | ||
1.一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉方法，其特征在于，包括以下步骤：
识别判断传送皮带(1)上的陶瓷砖坯(6)是否位于淋釉器(2)下方；
根据所述陶瓷砖坯不位于淋釉器下方关闭遮釉机构遮挡釉幕(7)下落至传送皮带，否则打开遮釉机构不遮挡釉幕下落。
2.根据权利要求1所述遮釉方法，其特征在于，还包括回收被所述遮釉机构遮挡的釉幕。
3.根据权利要求1所述遮釉方法，其特征在于，所述识别判断是通过光电传感器检测传送皮带上淋釉器釉幕下落位置处的陶瓷砖坯。
4.根据权利要求1所述遮釉方法，其特征在于，所述识别判断是检测传送皮带上淋釉器釉幕下落位置传送前方位置处的陶瓷砖坯并计算延时。
5.根据权利要求1所述遮釉方法，其特征在于，所述遮釉机构包括遮釉瓦(5)及其连杆旋转机构(3)和驱动所述连杆旋转机构的气缸(4)。
6.根据权利要求1所述遮釉方法，其特征在于，所述传送皮带是二条或二条以上传送皮带，所述遮釉瓦对应皮带条数或是一整块瓦。
7.一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉装置，其特征在于，是附设在传送皮带(1)上方、淋釉器(2)釉幕下落通道上、用于遮挡釉幕(7)下落到皮带的遮釉瓦(5)及其驱动单元，所述驱动单元依次电连接控制单元和用于识别陶瓷砖坯的传感器。
8.根据权利要求7所述遮釉装置，其特征在于，所述传感器是光电传感器，用于检测传送皮带上淋釉器釉幕下落位置或传送前方的陶瓷砖坯；所述驱动单元包括与所述遮釉瓦连接的连杆旋转机构(3)和驱动所述旋转机构的气缸(4)。
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