[发明专利]一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉装置及其方法有效
申请号: | 201010217016.X | 申请日: | 2010-07-05 |
公开(公告)号: | CN101863682A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 黄建平;谢悦增;满丽珠;黄俊生;张德安 | 申请(专利权)人: | 黄建平 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 | 代理人: | 陈安平;满群 |
地址: | 523121 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 陶瓷 砖坯 装置 及其 方法 | ||
技术领域
本发明涉及陶瓷砖坯淋釉工艺和设备,具体涉及一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉装置及其方法。
背景技术
随着房地产业的快速发展,建筑材料陶瓷墙地砖产品市场竞争日趋激烈,市场对产品的花色品种、质量的要求不断提高,无疑价格也是竞争的焦点之一。企业为应对激烈的市场竞争形势,在不断加大对新产品研发投入的同时,通过降低产品成本、减少浪费、节能减排争取获利空间。在陶瓷墙地砖产品生产中,用于表面装饰的釉料占产品成本比重较大,釉中大量的化工原料导致釉料成本居高不下,而单位平米釉料消耗是现代陶瓷砖的生产成本的主要控制指标之一。釉面砖的施釉比较常见的有3种方式:淋釉、喷釉和甩釉;其中淋釉是将釉浆打入高位罐,通过缓冲槽、缓冲网的缓冲作用,釉浆平缓的漫出流向钟罩,在钟罩上铺展形成似瀑布的釉幕帘,当陶瓷砖坯通过时釉幕覆盖在砖坯上形成釉层。淋釉是最能保证釉面平整度和光滑度的施釉方法,但这种方法施釉对釉浆的比重要求高,釉浆的消耗量大并且釉浆流失浪费多;这种浪费表现在施釉过程中当没有砖坯通过时,釉幕连续不断使砖坯输送带裹走大量的釉浆(未淋在皮带上的釉浆通过皮带下面的接釉槽回收循环到供釉罐)。为减少釉浆流失通常对皮带附加刮釉设置,而该设置在使用的同时需要配合水冲洗皮带,保持皮带的干净,但清洗皮带用水又导致釉浆在循环过程中的比重越来越小。同时皮带上的粘釉将粘附于施釉砖坯的底部。在烧成过程中因釉的熔融温度低,砖底的粘釉可导致成品砖底缺损,以及在烧成的高温段因坯底粘釉、釉熔化使传动辊棒粘釉;辊棒上附着物将导致烧成砖坯的变形等缺陷,并影响辊棒的使用周期,当辊棒粘脏导致烧制成品变形严重时,须停窑换辊棒才能继续生产。目前的陶瓷砖坯淋釉方法是导致釉浆消耗高、辊棒使用周期短的一种影响因素,而停窑换辊棒不仅影响了窑炉产量更导致停开窑带来的质量波动。
发明内容
本发明提供了一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉装置及其方法,能减少釉浆的浪费、避免皮带污染。
本发明的第一个技术问题这样解决:构建一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉方法,包括以下步骤:
识别判断传送皮带上的陶瓷砖坯是否位于淋釉器下方;
根据所述陶瓷砖坯不位于淋釉器下方关闭遮釉机构,则遮挡釉幕不使下落至传送皮带,否则打开遮釉机构不遮挡釉幕下落。
按照本发明提供的遮釉方法,还包括回收被所述遮釉机构遮挡的釉幕。
按照本发明提供的遮釉方法,所述识别判断包括但不限制于以下两种方式:
㈠通过光电传感器检测传送皮带上淋釉器釉幕下落位置处的陶瓷砖坯;
㈡检测传送皮带上淋釉器釉幕下落位置传送前方位置处的陶瓷砖坯并计算延时。
按照本发明提供的遮釉方法,所述遮釉瓦包括但不限制于以下两种形式:
㈠所述传送皮带包括二条或二条以上传送皮带,所述遮釉瓦是一整块;
㈡所述传送皮带包括二条或二条以上传送皮带,所述遮釉瓦是对应数目的多块,仅遮挡皮带上方的位置。
按照本发明提供的遮釉方法,所述遮釉机构包括但不限制于是遮釉瓦及其连杆旋转机构和驱动所述连杆旋转机构的气缸,其中:所述遮釉瓦也可由电机驱动,并通过其他传动机构使遮釉瓦翻转或平移。
本发明的另一个技术问题这样解决:构建一种用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉装置,包括传送皮带上方、淋釉器釉幕下落通道上、用于遮挡釉幕下落到皮带的遮釉瓦及其驱动单元,所述驱动单元依次电连接控制单元和用于识别陶瓷砖坯的传感器。
按照本发明提供的遮釉装置,所述驱动单元包括但不限制于是气缸及其驱动的连杆旋转机构。
按照本发明提供的遮釉装置,所述传感器是光电传感器,用于检测传送皮带上淋釉器釉幕下落位置或传送前方的陶瓷砖坯;所述驱动单元包括与所述遮釉瓦连接的连杆旋转机构和驱动所述旋转机构的气缸。
按照本发明提供的遮釉装置,所述遮釉瓦是一块或一块以上。
本发明提供的用于陶瓷砖坯淋釉的遮釉装置及其方法,采用遮釉瓦和自动传感控制,在无砖坯通过时将幕帘下的釉浆遮挡起来,使之不覆皮带,以避免皮带的裹走釉浆,减少釉浆的流失、污染和皮带粘釉导致的一系列问题,降低生产成本、提高生产效率和质量。
附图说明
下面结合附图和具体实施例进一步对本发明进行详细说明:
图1为本发明具体实施例中遮釉装置结构示意图;
图2为图1所示装置对应的电原理框图。
具体实施方式
首先,说明本发明思想:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于黄建平,未经黄建平许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010217016.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。