[发明专利]低温泵及低温泵的监控方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种低温泵及其监控方法。

背景技术

低温泵为通过凝结或吸附将气体分子捕捉在冷却至超低温的低温板上并排气的真空泵。低温泵通常为了实现半导体电路制造工艺等中所需求的清洁的真空环境而利用。

例如在专利文献1中，记载有溅射装置等多个生产装置通过LAN连接在于中央主计算机的生产管理系统。各生产装置中设有低温泵。而且，将与生产装置的网络另外独立的网络构筑于多个低温泵和保养管理用计算机之间。由此，统一进行多个低温泵的保养或管理。

专利文献1：日本特开平6-301617号公报

然而，上述的生产管理系统需要在新设置保养管理用计算机的同时、新构筑另外的网络，所以导致系统的成本增加。并且，因为是生产装置的网络之外的网络，所以结果只能与生产装置独立地仅记录并管理低温泵的运行状态。

发明内容

因此本发明的目的在于，提供一种例如利用已有的低温泵控制装置来实现适合于安装有低温泵的真空装置的低温泵运行状态监视的低温泵及其监控方法。

本发明的一种形态的低温泵为从进行真空处理的真空装置的真空腔对气体进行排气的低温泵，具备冷冻机、由所述冷冻机冷却的低温板、控制所述冷冻机的运行频率以便将所述低温板控制在目标温度的控制部。所述控制部在所述冷冻机的运行频率达到第1判定基准时，对所述运行频率进行第1判定时间的监控，在所述运行频率达到相当于比所述第1判定基准更高负载的第2判定基准时，对所述低温板的温度进行短于所述第1判定时间的第2判定时间的监控。

根据该形态，根据基于真空装置运行状态的向低温泵的负载变动控制冷冻机运行频率，以使低温板维持在目标温度。真空装置存在负载暂时提高的运行状态和持续赋予高负载的运行状态。由此，通过在量上且时间上监控运行频率的变动，能够推定真空装置的运行状态。并且，也能够识别真空装置运行状态的变化和低温泵异常。另外，通过并用温度监控能够进一步精度良好地监控。

所述第1判定时间可以设定为长于加热所述真空腔而排出气体的烘烤处理所需的烘烤时间，所述第2判定时间可以设定为短于该烘烤时间。

所述控制部也可以从所述运行频率达到第1基准频率时开始起算所述第1判定时间，且对小于该第1基准频率的第2基准频率持续监控直到所述运行频率降低为止。

所述第1基准频率也可以设定为大于所述真空处理中的设想的最大运行频率的值。

所述控制部也可以在所述运行频率达到大于所述第1基准频率的第3基准频率时，监控所述低温板的温度。

所述低温板也可以包括1级低温板和比该1级低温板冷却至更低温的2级低温板。所述控制部也可以在将所述1级低温板控制在所述目标温度时，当所述冷冻机的运行频率、所述1级低温板的温度以及所述2级低温板的温度均超过阈值的状态持续设定时间以上时，判定为所述冷冻机异常。

所述控制部也可以在所述冷冻机的运行频率及所述1级低温板的温度超过阈值的状态持续所述设定时间以上，且所述2级低温板的温度在所述设定时间内恢复时，判定为在所述真空装置中执行着烘烤处理。

本发明的另一形态就是低温泵的监控方法。该方法是对进行真空处理的真空装置进行排气的低温泵的监控方法，包括：当进行控制冷冻机的运行频率以便将低温板控制在目标温度的运行频率可变控制时，当所述冷冻机的运行频率达到第1判定基准时对所述运行频率进行第1判定时间的监控；在所述运行频率可变控制中，当所述运行频率达到相当于比所述第1判定基准更高负载的第2判定基准时，对所述低温板的温度进行短于所述第1判定时间的第2判定时间的监控。

发明的效果：

根据本发明，可以实现适合于安装有低温泵的真空装置的低温泵运行状态监视。

附图说明

图1是示意地表示本发明的一个实施方式所涉及的低温泵的剖视图。

图2是有关本实施方式所涉及的低温泵的控制框图。

图3是用于说明本实施方式所涉及的监控处理的一例的流程图。

图4是用于说明其他的实施方式所涉及的监控处理的流程图。

符号说明：

10-低温泵，12-冷冻机，14-板结构体，16-热护罩，22-第1冷却台，23-第1温度传感器，24-第2冷却台，25-第2温度传感器，26-冷冻机用电动机，28-闭塞部，31-开口部，32-挡板，40-压缩机，43-第1压力传感器，45-第2压力传感器，60-压缩机用电动机，100-CP控制器。

具体实施方式