[发明专利]光刻装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻投影装置，包括：

配置成保持基底的基底台；以及

在一端与基底台连接并且在另一端由基底台上的夹具可拆卸地保持在适当位置的密封凸出部。

2.如权利要求1所述的光刻装置，其中夹具包括低压入口。

3.如权利要求1或2所述的光刻装置，其中密封凸出部是柔性的，该密封凸出部包括接近密封凸出部的另一端的基本上非柔性的部分。

4.如权利要求1到3中任一所述的光刻装置，还包括：

配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统；以及

配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统。

5.一种光刻装置，包括：

配置成保持基底的基底台；

位于基底台上的传感器；

位于传感器与基底台之间的密封结构，该密封结构在一端与传感器连接，在另一端与基底台连接。

6.如权利要求5所述的光刻装置，包括位于密封结构上方的低压入口。

7.如权利要求5或6所述的光刻装置，其中传感器的边缘和基底台的边缘具有布置在密封结构上方的互补联锁台阶，使得从基底台顶部到密封结构的通路是曲折的。

8.如权利要求7所述的光刻装置，还包括配置成覆盖部分基底台的顶面的盖板，其中基底台的边缘是盖板中的孔的边缘。

9.如权利要求8所述的光刻装置，其中密封结构位于传感器的台阶上。

10.如权利要求5-9中任一所述的光刻装置，其中密封结构基本上在传感器的中轴处与传感器固定。

11.如权利要求5-10中任一所述的光刻装置，还包括：

配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统；以及

配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统。

12.一种器件制造方法，其包括：

将辐射光束投影到传感器上，其中密封结构位于传感器和配置成保持基底的基底台之间，该密封结构在一端与传感器连接，在另一端与基底台连接。

13.如权利要求12所述的方法，包括使用位于密封结构上方的低压入口排出液体。

14.如权利要求12或13所述的方法，其中传感器的边缘和基底台的边缘具有布置在密封结构上方的互补联锁台阶，使得从基底台顶部到密封结构的通路是曲折的，

15.如权利要求12-14中任一所述的方法，其中密封结构基本上在传感器的中轴处与传感器固定。