[发明专利]光刻装置和器件制造方法

说明书

本申请是分案申请，其母案申请的申请日为2005年12月7日、申请号为200510131051.9、发明名称为“光刻装置和器件制造方法”。

技术领域

本发明涉及光刻装置和制造器件的方法。

背景技术

光刻装置是一种将期望图案投影到基底上，通常是投影到基底靶部上的装置。光刻装置可以用于例如集成电路(Ic)的制造。在这种情况下，还可以称作掩模或中间掩模版的构图部件可以产生形成在Ic的一个单独层中的电路图案。该图案可以传送到基底(例如硅晶片)的靶部上(例如包括一个或者多个管芯)。典型地图案的传送是成像在设于基底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。一般地，单一的晶片包含相邻靶部的网格，该相邻靶部被逐个相继构图。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将全部图案一次曝光在靶上而部，和所谓的扫描装置，其中通过在辐射光束下沿给定的方向(“扫描”方向)扫描图案、并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同步扫描基底来辐射每一靶部。还可以通过把图案压印在基底上将图案从构图部件输送给基底。

已经有人建议将光刻投影装置中的基底浸没在具有相对高的折射率的液体例如水中，从而填充投影系统的最后一个元件和基底之间的空间。由于曝光辐射在液体中具有更短的波长，因此能够对更小的特征成像。(液体的作用也可以认为是增加了系统的有效NA以及增大了焦深。)还建议使用其它的浸液，包括具有固体微拉(例如石英)悬浮于其中的水。

然而，将基底或基底和基底台浸没在液体池中(参见例如US4,509,852，此处将其全文引入作为参考)意味着在扫描曝光过程必须加速大量的液体。这就需要附加的或更大功率的电动机，并且在液体中的紊流可能导致不期望的和不可预见的影响。

提出的一种用于液体供给系统的解决方案是仅仅将液体提供到基底的局部区域上以及投影系统的最后一个元件和基底(该基底通常具有比投影系统的最后一个元件更大的表面区域)之间。在PCT专利申请WO99/49504中公开了一种为此布置而提出的方式，该文件在此以全文引入并作为参考。如图2和3所示，优选地沿基底相对于最后一个元件移动的方向，通过至少一个入口IN将液体提供基底上，并且在液体已经经过投影系统下方之后通过至少一个出口OUT除去液体。也就是说，当沿a-X方向在元件的下面扫描基底时，液体在元件的+X侧被提供并在-X侧被接收。图2示出了示意性的布置，其中通过入口IN提供液体，并通过一个与低压源连接的出口OUT在元件的另一侧被接收。在图2中沿基底相对于最后一个元件移动的方向提供液体，尽管可以不必这样。围绕最后一个元件设置的入口和出口的各种定位和数量是可能的，图3示出了一个实例，其中在围绕最后一个元件的矩形图案中在任何一侧设置了四组入口和出口。

当然湿浸式装置中的处理液体会产生具体的困难。特别地，基底台的灵敏部件必须是防止浸液侵入的。

发明内容

因此，有利的是例如在基底台的不同部件之间密封。特别地，期望的是具有不会在基底台的部件之间传递作用力的密封，所述密封在基底台的部件之间延伸。

根据本发明的一个方面，提供一种光刻投影装置，其包括：

配置成保持基底的基底台；

附设有柔性凸出部的第一基底台部分；以及

具有夹紧装置的第二基底台部分，该夹紧装置配置成吸引和保持凸出部的自由端以便在第一部分和第二部分之间形成密封。

根据本发明的一个方面，提供一种光刻投影装置，其包括：

配置成保持基底的基底台；以及

在一端与基底台固定并且在另一端由基底台上的夹具可拆卸地保持在适当位置的密封凸出部。

根据本发明的一个方面，提供一种光刻装置，其包括：

配置成保持基底的基底台；

位于基底台上的传感器；

位于传感器和基底台之间的密封结构，该密封结构在一端与传感器连接，在另一端与基底台连接。

根据本发明的一个方面，提供一种器件制造方法，其包括：

使用位于基底台第一部分上的夹紧装置夹紧柔性凸出部的一端，以便在基底台的第一部分和第二部分之间形成密封；以及

将带图案的辐射光束投影到保持在基底台上的基底。

根据本发明的一个方面，提供一种器件制造方法，其包括：

将投影光束投影到传感器上，其中密封结构位于传感器和配置成保持基底的基底台之间，该密封结构在一端与传感器连接，在另一端与基底台连接。

附图说明

现在参考随附的示意性视图仅仅作为实例描述本发明的实施例，其中对应的参考标记表示对应的部件，其中：