[发明专利]真空镀膜件及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010235428.6 申请日: 2010-07-23
公开(公告)号: CN102337501A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;马闯 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 真空镀膜 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种真空镀膜件及其制备方法,尤其涉及一种呈现绿色的真空镀膜件及其制备方法。

背景技术

真空镀膜技术是一个非常环保的成膜技术。以真空镀膜的方式所形成的膜层具有高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性、与基体结合牢固以及亮丽的金属外观等优点,因此真空镀膜在装饰性表面处理领域的应用越来越广。

在装饰性真空镀膜领域中,对所镀膜层的颜色的设计与控制是一个非常关键的技术指标。目前采用真空镀膜技术能够稳定地生产的颜色仅限于金色、银色、黑色、玫瑰红等少数色系,与烤漆、阳极处理等成膜工艺相比,真空镀膜在装饰性表面处理领域的竞争力不强。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种呈现绿色的真空镀膜件。

另外,还提供一种上述真空镀膜件的制备方法。

一种真空镀膜件,包括一基体及一形成于基体上的颜色层,该颜色层为一氧化铬层,该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于75至80之间,a*坐标介于-5至-10之间,b*坐标介于15至20之间。

一种真空镀膜件的制备方法,包括以下步骤:

提供一基体;

使用一铬靶,以5~100sccm的流量向真空室内通入纯度为99.99%的氧气,通过磁控溅射镀膜方法在基体上形成一颜色层,该颜色层为一氧化铬层,其厚度为0.5~3μm,呈现的色度区域于CIELAB表色系统L*坐标介于75至80之间,a*坐标介于-5至-10之间,b*坐标介于15至20之间。

相较于现有技术,上述真空镀膜件的制备方法,通过对反应气体氧气的流量控制来改变颜色层的成分,即改变颜色层中氧原子与铬原子的比例,从而达到使颜色层呈现出绿色的目的。以该方法所制得的真空镀膜件可呈现出具吸引力的绿色的金属外观,丰富了真空镀膜层的颜色,极大地提高了产品的外观竞争力。

附图说明

图1为本发明较佳实施例的真空镀膜件的剖视示意图。

主要元件符号说明

真空镀膜件    10

基体          11

衬底层        13

颜色层        15

具体实施方式

本发明的真空镀膜件可以为电子装置外壳,也可以为眼镜边框、钟表外壳、金属卫浴件及建筑用件。

请参阅图1,本发明较佳实施例的真空镀膜件10包括一基体11、一衬底层13及一颜色层15。衬底层13直接与基体11结合,颜色层15形成于衬底层13的表面。

基体11的材质可以为金属、玻璃、陶瓷或塑料。

衬底层13形成于基体11与颜色层15之间,以增强颜色层15于基体11上的附着力。衬底层13可为一铬层或其它可提供附着效果的涂层。衬底层13的厚度大约为0.01~0.1μm,优选厚度为0.05μm。衬底层13的颜色以不影响颜色层颜色的色调为佳,比如可为银色、白色及灰白色等浅色调。

颜色层15为一氧化铬层。该颜色层15呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L*坐标介于78至83之间,a*坐标介于-5至-10之间,b*坐标介于15至20之间,表现为绿色。颜色层15的厚度大约为0.5~3μm,优选厚度为2μm。

上述真空镀膜件10的制备方法主要包括如下步骤:

提供一基体11,并将基体11放入盛装有乙醇及/或丙酮溶液的超声波清洗器中进行震动清洗,以除去基体11表面的杂质和油污。清洗完毕后烘干备用。所述基体11的材质可以为金属、玻璃、陶瓷或塑料。

再对基体11的表面进行氩气等离子清洗,进一步去除基体11表面的油污,以改善基体11表面与后续涂层的结合力。对基体11的表面进行氩气等离子清洗的方法包括如下步骤:将基体11放入一磁控溅射镀膜机的真空室内的工件架上,抽真空至真空度为8.0×10-3Pa,以300~600sccm(标准状态毫升/分钟)的流量向真空室内通入纯度为99.999%的氩气,调节偏压至-300~-800V,对基体11表面进行等离子清洗,清洗时间为5~10min。

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